[发明专利]去除金属副产物的方法及其真空系统

权利要求书

1.一种去除金属副产物的方法，所述方法包括：

在处理室中沉积金属前驱体以形成金属层；

对从所述处理室移送的包含残留金属前驱体的排出气体进行等离子体处理；

使用氧化性气体对由所述等离子体处理产生的金属副产物进行处理来生成金属氧化物；和

通过抽吸排出该金属氧化物。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述金属前驱体选自由至少一种金属的氯化物、氢氧化物、羟基氧化物、醇盐、酰胺、硝酸盐、碳酸盐、醋酸盐、草酸盐和柠檬酸盐组成的组，或为该些金属络合物的组合，所述至少一种金属选自由Al、Cu、Ni、W、Zr、Ti、Si、Hf、La、Ta和Mg组成的组。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述等离子体是使用AC电源产生的介质阻挡放电。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述氧化性气体选自由空气、氧气、水蒸气、臭氧、氮氧化物、过氧化氢和醇组成的组。

5.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括通过阱来去除金属氧化物。

6.一种去除金属副产物的真空系统，所述系统包括：

接收和沉积作为原料的金属前驱体的处理室；

用于将所述处理室真空化并抽吸排出气体的真空泵，所述排出气体含有所述处理室中未反应的残留金属前驱体；

位于所述处理室和所述真空泵之间以分解所述残留金属前驱体的等离子体反应器；和

用于将氧化性气体供给至所述等离子体反应器以产生金属氧化物的供给单元。

7.如权利要求6所述的真空系统，其中，所述等离子体反应器包括由介电材料制成的管道和配置在所述管道外周或内周的电极单元。

8.如权利要求6所述的真空系统，其中，所述供给单元供给含氧气体。

9.如权利要求6所述的真空系统，所述真空系统还包括安装在所述等离子体反应器和所述真空泵之间的用来捕获所述金属氧化物的阱。

10.如权利要求6所述的真空系统，所述真空系统还包括安装在所述真空泵下游的洗涤器。

11.如权利要求10所述的真空系统，所述真空系统还包括安装在所述真空泵和所述洗涤器之间的用来捕获所述金属氧化物的阱。

12.如权利要求6所述的真空系统，所述真空系统还包括安装在所述处理室和所述等离子体反应器之间的辅真空泵。