[发明专利]具有防反射性的玻璃的制造方法及具有防反射性的玻璃

权利要求书

1.具有防反射性的玻璃的制造方法，其特征在于，包括：

(a)在常压、大气气氛下，在250℃～650℃的温度范围内，使包含氟化合物的处理气体与玻璃基板的表面接触的步骤；以及

(b)在所述表面之上形成有机氟类化合物的层的步骤。

2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述有机氟类化合物的层通过涂布处理形成于所述表面之上。

3.如权利要求1或2所述的制造方法，其特征在于，所述有机氟类化合物的层包含氟类聚合物和/或含氟硅烷偶联剂。

4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其特征在于，作为所述处理气体的原料，包含氟化氢和/或三氟乙酸。

5.如权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述处理气体中包含氟化氢气体，该氟化氢气体的浓度为0.1体积％～10体积％的范围。

6.如权利要求1～5中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述处理气体还包含氮和/或氩。

7.如权利要求1～6中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述(a)的步骤中，所述玻璃基板在被搬运的状态下与所述处理气体接触。

8.如权利要求1～7中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述(a)的步骤中，在所述玻璃基板的上部配置喷射器，所述处理气体自所述喷射器朝向所述玻璃基板喷射。

9.如权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板通过所述喷射器的时间为1秒～120秒之间。

10.如权利要求1～9中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述有机氟类化合物的层与水的接触角在90°以上。

11.如权利要求1～10中任一项所述的制造方法，其特征在于，在所述(a)和(b)的步骤之间，具有在所述表面形成密合层的步骤。

12.具有防反射性的玻璃，其特征在于，包括：

具有表面的玻璃基板，和在所述表面上形成的有机氟类化合物的层；

所述玻璃基板的所述表面具有纳米级的凹凸；

所述玻璃基板的所述表面具有与主体相比氧化硅浓度下降、除氧化硅以外的成分较多的部分。

13.如权利要求12所述的玻璃，其特征在于，在所述玻璃基板和所述有机氟类化合物的层之间还具有密合层。

14.如权利要求12或13所述的玻璃，其特征在于，所述有机氟类化合物的层包含氟类聚合物和/或含氟硅烷偶联剂。

15.如权利要求12～14中任一项所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的板厚在3mm以下，且该玻璃基板的透射率、即波长400nm～700nm的范围内的透射率的平均值为88％以上。