[发明专利]抗划痕偏振制品及其制造和使用方法

权利要求书

1.一种光偏振制品，其包括：

透光基材；

布置在透光基材的表面上的光偏振层，其中所述光偏振层包含二向色染料；以及

布置在光偏振层上的保护多层，其中所述保护多层包括：

布置在光偏振层上的厚的聚合物第一层，其中，所述厚的聚合物第一层的厚度至少约为20微米；以及

布置在厚的聚合物第一层上的薄的抗磨损第二层，其中所述薄的抗磨损第二层的厚度小于或等于约10微米。

2.如权利要求1所述的光偏振制品，所述光偏振制品还包括插入光偏振层和保护多层的厚的聚合物第一层之间的粘合促进底漆层。

3.如权利要求2所述的光偏振制品，其特征在于，所述粘合促进底漆层包含硅烷。

4.如权利要求1所述的光偏振制品，其特征在于，所述光偏振层还包含浸渍于其中的硅氧烷。

5.如权利要求1所述的光偏振制品，其特征在于，所述厚的聚合物第一层的厚度约为40-60微米。

6.如权利要求1所述的光偏振制品，其特征在于，所述薄的抗磨损第二层的厚度约为1-5微米。

7.如权利要求1所述的光偏振制品，其特征在于，所述厚的聚合物第一层的厚度约为40-60微米，以及所述薄的抗磨损第二层的厚度约为1-5微米。

8.如权利要求1所述的光偏振制品，其特征在于，所述厚的聚合物第一层包含可辐射固化的(甲基)丙烯酸酯。

9.如权利要求8所述的光偏振制品，其特征在于，所述可辐射固化的(甲基)丙烯酸酯是由包含约40-90重量％的反应性稀释剂乙烯类单体的组合物形成的。

10.如权利要求9所述的光偏振制品，其特征在于，所述反应性稀释剂乙烯类单体包括甲基丙烯酸羟基乙基酯、丙烯酸异冰片基酯、丙烯酸、丙烯酸四氢糠基酯，或者它们的混合物或掺混物。

11.一种光偏振制品，其包括：

玻璃基材；

布置在玻璃基材的表面上的光偏振层，其中所述光偏振层包含二向色染料和浸渍的硅氧烷；以及

布置在光偏振层上的保护多层，其中所述保护多层包括：

布置在光偏振层上的厚度约为40-60微米的厚的聚合物第一层；以及

布置在厚的聚合物第一层上的厚度约为1-5微米的薄的抗磨损第二层。

12.如权利要求11所述的光偏振制品，所述光偏振制品还包括插入光偏振层和保护多层的厚的聚合物第一层之间的粘合促进底漆层。

13.一种制造光偏振制品的方法，所述方法包括：

提供透光基材；

在透光基材的表面的至少一部分上形成包含二向色染料的光偏振层；

在光偏振层上形成厚的聚合物第一层，其中，所述厚的聚合物第一层的厚度至少约为20微米；以及

在厚的聚合物第一层上形成薄的抗磨损第二层，其中所述薄的抗磨损第二层的厚度小于或等于约10微米。

14.如权利要求13所述的方法，所述方法还包括在形成光偏振层之前，通过以单轴方向对表面进行磨蚀，在透光基材的表面上形成多个微槽。

15.如权利要求13所述的方法，所述方法还包括使得光偏振层的二向色染料不溶化和稳定化。

16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，使得二向色染料不溶化和稳定化包括：

使得光偏振层与由γ-氨基丙基三甲氧基硅烷和/或γ-氨基丙基三乙氧基硅烷制备的水性溶液接触；以及

将经接触的光偏振层加热至约60-140摄氏度，以使得用γ-氨基丙基三甲氧基硅烷和/或γ-氨基丙基三乙氧基硅烷浸渍光偏振层。

17.如权利要求16所述的方法，其特征在于，使得二向色染料不溶化和稳定化还包括：

使得经热处理的光偏振层与环氧化烷基三烷氧基硅烷的水性溶液接触；

使得环氧化烷基三烷氧基硅烷发生反应以使得所述环氧化烷基三烷氧基硅烷缩合和/或聚合化；以及

在约60-220摄氏度之间加热经反应的环氧化烷基三烷氧基硅烷，以使得用经反应的环氧化烷基三烷氧基硅烷浸渍光偏振层。

18.如权利要求13所述的方法，所述方法还包括在形成厚的聚合物第一层之前，在光偏振层上布置粘合促进底漆层。