[发明专利]含有聚合物稳定剂基团的烯属不饱和低聚物

说明书

本发明公开了官能化聚脲基甲酸酯低聚物，其含有烯属不饱和基团和聚合物稳定剂基团，所述聚合物稳定剂基团是选自位阻胺光稳定剂、紫外光吸收剂、抗氧化剂和二烃基羟基胺。烯属不饱和基团和聚合物稳定剂基团是经由脲基甲酸酯基团和/或氨基甲酸酯基团与聚脲基甲酸酯低聚物键接的。所述聚脲基甲酸酯低聚物可用于可固化的涂料、油墨和清漆中。本发明的聚脲基甲酸酯低聚物是衍生自a)有机多异氰酸酯、b)含有至少一个异氰酸酯反应性基团和至少一个烯属不饱和基团的化合物和c)含有至少一个异氰酸酯反应性基团的聚合物稳定剂。

本发明涉及含有烯属不饱和基团且含有聚合物稳定剂基团的低聚物。聚合物稳定剂例如是选自位阻胺光稳定剂(HALS)、紫外光吸收剂(UVA)、抗氧化剂和二烃基羟基胺。

已经发现特定的聚合物稳定剂当与特定的可固化低聚物共价键接时具有在可固化组合物中的特别优异的性能。键接的稳定剂是高度相容性的。烯属不饱和基团和聚合物稳定剂经由脲基甲酸酯和/或氨基甲酸酯基团与低聚物键接。

因此，本发明的目的在于低聚物化合物，其含有经由脲基甲酸酯和/或氨基甲酸酯基团键接的烯属不饱和基团以及含有一个或多个经由脲基甲酸酯和/或氨基甲酸酯基团键接的聚合物稳定剂基团。

本发明的低聚物化合物是衍生自a)有机多异氰酸酯，b)含有至少一个异氰酸酯反应性基团和至少一个烯属不饱和基团的化合物，和c)含有至少一个异氰酸酯反应性基团和至少一个聚合物稳定剂基团的化合物。

制备本发明低聚物化合物的方法包括使a)至少一种有机多异氰酸酯与b)至少一种含有至少一个异氰酸酯反应性基团和至少一个烯属不饱和基团的化合物反应，以制备具有经由脲基甲酸酯键接的烯属不饱和基团和未反应的异氰酸酯基团的中间体，然后使所述中间体与c)至少一种含有至少一个异氰酸酯反应性基团和至少一个聚合物稳定剂基团的化合物反应。

在上述两步法中的顺序也可以反转。在这种情况下，a)将先与c)反应以制备中间体，然后中间体与b)反应。在这种情况下，中间体将含有经由脲基甲酸酯键接的聚合物稳定剂基团和未反应的异氰酸酯基团。

或者，本发明方法包括使a)至少一种多异氰酸酯、b)至少一种含有至少一个异氰酸酯反应性基团和至少一个烯属不饱和基团的化合物和c)至少一种含有至少一个异氰酸酯反应性基团和至少一个聚合物稳定剂基团的化合物在一步法中反应，且没有制备任何中间体。

在两步法中，形成含有脲基甲酸酯基团的中间体。这种中间体可以分离。含脲基甲酸酯基团的中间体含有至少一个未反应的异氰酸酯基团。所述中间体有利地含有2、3或4个异氰酸酯基团，一般含有2个异氰酸酯基团。

本发明低聚物的数均分子量Mn是小于10,000g/mol，优选小于5000g/mol，更优选小于4000g/mol，最优选是2000g/mol或更小。优选，数均分子量是约900-3000g/mol，更优选约1000-2500g/mol，最优选约1000-2000g/mol。

术语“衍生自”表示低聚物含有这些基团作为单体单元或端基。

在低聚物中的脲基甲酸酯基团C₂N₂HO₃的量通常是约3-25重量％。

本发明的一般方法可以按照U.S专利5,739,251和6,617,413和美国申请No.13/905,514所述进行，将其内容引入本文供参考。本发明方法可以使用其中所述的必要的催化剂和温度范围。

本发明方法可以以纯形式进行，或可以用合适的溶剂进行。合适的溶剂包括丙酮、异丁基甲基酮、甲苯、二甲苯、乙酸丁酯、乙酸甲氧基丙基酯、乙酸乙氧基乙基酯和乙酸乙酯。

可以使用合适的催化剂，例如金属化合物、胺化合物或铵化合物，例如乙酰基丙酮酸锌，2-乙基己酸锌，二月桂酸二正丁基锡，辛酸锌，辛酸锡(II)，三乙胺，二甲基乙醇胺，Ν,Ν,Ν-三甲基-N-2-羟基丙基氢氧化铵，或2-乙基己酸N,N,N-三甲基-N-2-羟基丙基铵。