[发明专利]紫外光产生用靶、电子束激发紫外光源、以及紫外光产生用靶的制造方法有效
申请号: | 201380055517.4 | 申请日: | 2013-09-06 |
公开(公告)号: | CN104755583B | 公开(公告)日: | 2017-05-17 |
发明(设计)人: | 本多庆范;武富浩幸;福世文嗣;河合浩司;高冈秀嗣;市川典男;铃木孝 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | C09K11/00 | 分类号: | C09K11/00;C09K11/79;C09K11/80;H01J63/06 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 杨琦,黄浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外光 产生 电子束 激发 紫外 光源 以及 制造 方法 | ||
1.一种紫外光产生用靶,其特征在于:
具备:
透射紫外光的基板;和
设置在所述基板上、接受电子束而产生紫外光的发光层,
所述发光层包含由添加有活化剂的含有Lu和Si的氧化物多晶构成的多晶膜,
所述氧化物多晶包含LPS和LSO中的至少一种,
所述活化剂为Pr。
2.一种紫外光产生用靶,其特征在于:
具备:
透射紫外光的基板;和
设置在所述基板上、接受电子束而产生紫外光的发光层,
所述发光层包含由添加有活化剂的含稀土类的铝石榴石多晶构成的多晶膜,该多晶膜的紫外发光峰值波长为300nm以下,
所述含稀土类的铝石榴石多晶为LuAG,所述活化剂为Sc、La和Bi中的至少一种。
3.一种紫外光产生用靶,其特征在于:
具备:
透射紫外光的基板;和
设置在所述基板上、接受电子束而产生紫外光的发光层,
所述发光层包含由添加有活化剂的含稀土类的铝石榴石多晶构成的多晶膜,该多晶膜的紫外发光峰值波长为300nm以下,
所述含稀土类的铝石榴石多晶为YAG,所述活化剂为Sc和La中的至少一种。
4.如权利要求1~3中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述多晶膜的厚度为0.1μm以上且10μm以下。
5.如权利要求1~3中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述基板由蓝宝石、石英或水晶构成。
6.如权利要求4所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述基板由蓝宝石、石英或水晶构成。
7.一种电子束激发紫外光源,其特征在于,
具备:
紫外光产生用靶;
对所述紫外光产生用靶施加所述电子束的电子源;
引出电极,用于对所述电子源施加引出电压;
电源部,对所述电子源和所述引出电极施加电压;以及
抽真空后的电子管,配置有所述紫外光产生用靶、所述电子源和所述引出电极,
所述紫外光产生用靶具备:
透射紫外光的基板;和
设置在所述基板上、接受电子束而产生紫外光的发光层,
所述发光层包含由添加有活化剂的含有Lu和Si的氧化物多晶构成的多晶膜,
所述电子射线经由铝膜而入射到所述发光层,
在所述发光层产生的所述紫外光从所述基板出射。
8.如权利要求7所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述氧化物多晶包含LPS和LSO中的至少一种。
9.如权利要求8所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述活化剂为Pr。
10.如权利要求7~9中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述多晶膜的厚度为0.1μm以上且10μm以下。
11.如权利要求7~9中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述基板由蓝宝石、石英或水晶构成。
12.如权利要求10所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述基板由蓝宝石、石英或水晶构成。
13.一种紫外光产生用靶的制造方法,其特征在于,
具备:
第一工序,在透射紫外光的基板上,通过蒸镀含有Lu和Si的氧化物和活化剂来形成膜;和
第二工序,通过对所述膜进行热处理而多晶化。
14.如权利要求13所述的紫外光产生用靶的制造方法,其特征在于:
在所述第二工序中的热处理时,使所述膜的周围为大气压。
15.一种紫外光产生用靶的制造方法,其特征在于,
具备:
第一工序,在透射紫外光的基板上,通过蒸镀用于紫外发光峰值波长为300nm以下的含活化剂和稀土类的铝石榴石结晶的材料来形成膜;和
第二工序,通过对所述膜进行热处理而多晶化。
16.如权利要求15所述的紫外光产生用靶的制造方法,其特征在于:
在所述第二工序中的热处理时,使所述膜的周围为真空。
17.如权利要求13~16中任一项所述的紫外光产生用靶的制造方法,其特征在于:
将所述第二工序中热处理后的所述膜的厚度设为0.1μm以上且10μm以下。
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