[发明专利]通过在液相中光气化胺制备异氰酸酯的方法

说明书

本发明涉及一种通过相应胺在液相中光气化制备芳族或脂族异氰酸酯的方法。

胺的液相光气化作为制备异氰酸酯的常规路线已被记载多次并以工业规模实施(参见，例如，Ullmannsder Technischen Chemie,volume 7(Polyurethane),3rd revised edition,Carl Hanser Verlag,Munich-Vienna,p.76ff(1993))。特别地，全世界以工业规模制备芳族异氰酸酯TDI(甲苯二异氰酸酯)和MDI(亚甲基二(苯基异氰酸酯))以及脂族异氰酸酯六亚甲基二异氰酸酯(HDI)和异氟尔酮二异氰酸酯(IPDI)。

现今的芳族二异氰酸酯MDI和TDI以及脂族二异氰酸酯HDI和IPDI的工业合成几乎完全是以连续法进行。

原料胺与光气的反应通常分若干阶段进行。这种具有非常高的化学产率、高时空产率和低光气滞留的多阶段法记载于EP 1575904中。根据该文献，有机胺与光气之间的反应在惰性溶剂(优选甲苯、氯苯、二氯苯或氯苯和二氯苯的混合物)中使用过量的光气分和三个以上的阶段进行，并且压力在三个阶段的每个阶段降低，且第一光气化阶段包括静态混合器，优选喷嘴，第二阶段在停留设备中进行，以及第三阶段在一个以上的(反应)塔中进行。喷嘴上游的压力优选为3至70巴。第二阶段的停留反应器优选在2.5至35巴的压力下运行。在喷嘴的下游，通过阀或另一合适的设备将反应混合物减压至第二阶段的压力。然而，还可使用喷嘴或喷嘴与停留反应器之间的连接件的自然压降来降低压力。第一阶段的反应器(通常为静态混合器)还可整合至第二阶段的反应器(停留设备)中。第三光气化阶段的反应器(反应塔)优选在2至20巴的压力下运行。在第二阶段反应器的下游，通过阀或另一合适的设备将反应混合物减压至第三阶段反应器的压力。任选地，自然压降也足以用来降低压力。

随后将剩余的含有异氰酸酯的产物混合物输送至进一步的后处理(溶剂移除、纯化蒸馏)。作为副产物获得的HCl、过量的光气和溶剂残余物作为气态蒸汽从反应和蒸馏阶段中移出，并输送至热分离，例如，如WO2004056758中所记载的。

从混合设备到停留反应器、到反应塔、到光气汽提塔以及到HCl-光气分离器，压力不断降低。为了避免光气汽提塔底部的温度过高(其可不利地影响产率)，优选将该塔中的压力保持为非常低(1至4巴)。HCl-光气分离器通过蒸汽流连接到该塔，并且需在稍微更低的压力下运行。因此，适当的低温(-40℃至-20℃)对光气从HCl流中的热分离是必要的。然而，为此所需的制冷能量导致高本成本和运行成本。

鉴于现有技术，本发明的目的是提供一种改进的通过相应胺的液相光气化制备异氰酸酯的方法，其以技术上简单的方式显著节省了资本成本和运行成本。

该目的通过一种使胺与光气在液相中反应来制备异氰酸酯的方法而实现，所述方法包括以下过程阶段：

a)将液体含胺原料流和液体含光气原料流混合，得到进料料流，

b)使来自过程阶段a)的进料料流在停留反应器中反应以得到两相的气态/液态反应混合物，其直接进料至反应塔或在下游分离器中除去气相之后进料至反应塔，

c)使两相的气态/液态反应混合物或仅其液相在反应塔中反应，得到顶部料流(overhead stream)和底部料流(bottom stream)，将所述底部料流进料至光气/氯化氢汽提塔中，

d)通过蒸馏除去经由来自光气/氯化氢汽提塔的塔顶料流的光气和氯化氢，得到来自光气/氯化氢汽提塔的底部料流，其包含异氰酸酯和溶剂，由此，在以下过程阶段中

e)通过蒸馏除去溶剂而获得所需的异氰酸酯产物，以及在以下过程阶段中

f)将来自光气/氯化氢汽提塔中的蒸汽在分离塔中进行热分离，得到在顶部的含有氯化氢的蒸汽料流以及包含光气和溶剂并循环至过程阶段a)的底部料流，

其中，过程阶段f)的热分离在如下压力下进行：分离塔的顶部的压力高于光气/氯化氢汽提塔的顶部的压力。

已出人意料地发现，分离塔——其中氯化氢在顶部分离出且光气经由底部料流分离出——可在相对高的压力和相应地相对低的温度下运行，同时相应地节省制冷能量。

当需要压缩氯化氢以用于进一步的处理时，例如，在制备1,2二氯乙烷的氯氧化过程中，获得在相对高的压力下分离氯化氢-光气的另一个优势。在该情况下，所需的压缩和由此产生的用于压缩机的相应的资本成本和运行成本降低。

本发明从EP 157 5904中所记载的制备异氰酸酯的方法出发。