[发明专利]Cu-Be合金及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201380056659.2 申请日: 2013-10-23
公开(公告)号: CN104769139A 公开(公告)日: 2015-07-08
发明(设计)人: 三浦博己;村松尚国 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社;国立大学法人电气通信大学
主分类号: C22C9/00 分类号: C22C9/00;C22F1/08;C22F1/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;李家浩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: cu be 合金 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及Cu-Be合金及其制造方法。

背景技术

以往,Cu-Be合金作为兼顾高强度和高导电性的实用合金,广泛地使用于电子部件、机械部件中。这样的Cu-Be合金例如通过在熔化铸造后反复进行在热态、冷态下的塑性加工和退火处理,然后依次进行固溶处理、冷加工、时效硬化处理来得到(参照专利文献1、2)。然而,在Cu-Be合金的时效硬化处理中,有时会因晶界反应导致Cu-Be化合物不连续地析出到晶界,因此有时会导致机械强度降低。于是,为了抑制机械强度的降低,提出有添加Co的方案(参照非专利文献1~3)。通过添加Co,能够抑制时效硬化处理时的晶界反应,并抑制Cu-Be化合物不连续地析出到晶界。此外,通过添加Co,能够防止在铸造、热加工、退火、固溶处理等中结晶粒的粗大化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特公平7-13283号公报

专利文献2:日本专利第2827102号

非专利文献

非专利文献1:森永、后藤、高桥,日本金属学会誌(日本金属学会志),24卷,12号(1960)777-781

非专利文献2:三岛、大久保,伸銅技術研究会誌(伸铜技术研究会志),5卷,1号(1966)112-118

非专利文献3:椿野、野里、三谷,日本金属学会誌(日本金属学会志),44卷,10号(1980)1122-11

发明内容

发明所要解决的问题

然而,对于Cu-Be合金中添加Co而得的合金,其机械强度尚不够充分,期望进一步提高机械强度。

本发明是鉴于这样的问题而完成的,其主要目的在于,提供能够提高机械强度的Cu-Be合金及其制造方法。

用于解决问题的手段

为了实现上述目的,本发明人等制作了如下那样的Cu-Be合金,该Cu-Be合金含有0.12质量%以下的Co,且能够在2万倍的TEM图像中确认的粒径0.1μm以上的Cu-Co系化合物的数量,在每10μm×10μm的视野中为5个以下。并且,将该Cu-Be合金在冷态进行强加工,并进行了时效硬化处理,结果发现能够提高机械强度,以至完成本发明。

即,本发明的Cu-Be合金为含有Co的Cu-Be合金,上述Co的含量为0.005质量%以上0.12质量%以下,能够在2万倍的TEM图像中确认的粒径0.1μm以上的Cu-Co系化合物的数量,在每10μm×10μm的视野中为5个以下。

此外,本发明的Cu-Be合金的制造方法包含:对含有0.005质量%以上0.12质量%以下的Co和1.60质量%以上1.95质量%以下的Be的Cu-Be合金原料进行固溶处理,从而得到固溶处理材的固溶处理工序。

发明的效果

本发明可以提供能够提高机械强度的Cu-Be合金及其制造方法。其理由可以推测如下。以往的Cu-Be合金中,由于散布有粗大的Cu-Co系化合物,从而该Cu-Co系化合物成为断裂的起点,而不能得到充分的机械强度。实际上,在对以往的添加有Co的Cu-Be合金的断裂面进行确认时,可确认到粗大的Cu-Co系化合物的存在。相对于此,在本发明中,几乎不存在会成为断裂的起点那样的粗大的Cu-Co系化合物,因此,可推测为能够抑制拉伸强度等机械强度的降低。

附图说明

图1为表示锻造方法的一个示例的说明图。

图2为由锻造引起的工件组织的变化的说明图。

图3为实验例1的固溶处理材的TEM照片。

图4为比较例3的固溶处理材的TEM照片。

具体实施方式

本发明的Cu-Be合金是含有Co的Cu-Be合金。Co的含量为0.005质量%以上0.12质量%以下即可,也可为0.005质量%以上且小于0.05质量%。如果Co的含量为0.005质量%以上,则能够得到添加Co的效果,即,抑制Cu-Be化合物不连续地析出到晶界,或防止结晶粒的粗大化这样的效果。此外,如果Co的含量为0.12质量%以下,则由于几乎不存在粗大的Cu-Co系化合物,因此能够提高机械强度。Be的含量没有特别限定,但优选为1.60质量%以上1.95质量%以下,更优选为1.85质量%以上1.95质量%以下。这是因为,如果为1.60质量%以上,则能够期待通过时效硬化处理带来的提高机械强度的效果,如果为1.95质量%以下,则难以生成粗大的Cu-Co系化合物。

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