[发明专利]用于光调制显示器的薄膜堆叠有效

专利信息
申请号: 201380056880.8 申请日: 2013-10-23
公开(公告)号: CN104769462A 公开(公告)日: 2015-07-08
发明(设计)人: 吉安·J·马;约翰·H·宏;泰里斯·Y·江;忠·U·李 申请(专利权)人: 皮克斯特隆尼斯有限公司
主分类号: G02B5/22 分类号: G02B5/22;G02B26/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 林斯凯
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 调制 显示器 薄膜 堆叠
【权利要求书】:

1.一种装置,其包括

衬底层,其邻近光源而安置且具有

允许光穿过所述衬底层的孔口,及

吸收膜堆叠,其包含:

光反射材料层,

光吸收材料层,其安置于所述光反射材料层上且与所述光反射材料层间隔固定距离,及

干涉吸收膜堆叠,包含:

具有第一折射率的介电材料层及具有第二折射率的介电材料层,

所述介电材料层的厚度经选择以引起从所述干涉吸收膜堆叠反射的光干扰入射在所述干涉吸收膜堆叠上的光且使具有峰值振幅的干扰驻波出现在所述光吸收材料层处。

2.根据权利要求1所述的装置,其中具有第一折射率的所述介电材料层及具有第二折射率的所述介电材料层经选择以减少以与正交于所述干涉吸收膜堆叠的表面的轴成0°与50°之间的角度入射的光的反射。

3.根据权利要求1所述的装置,其中所述固定距离将所述吸收材料层布置于所述吸收膜堆叠中的所述干扰驻波的实质上峰值振幅的位置处。

4.根据权利要求1所述的装置,进一步包含安置于所述光反射材料层与所述吸收材料层之间的透射材料间隔层。

5.根据权利要求4所述的装置,其中所述间隔层具有使所述吸收层与所述光反射材料层间隔所述固定距离的厚度。

6.根据权利要求1所述的装置,其中所述光反射材料层包含在可见光的光谱中具有大于70%的反射比的金属层。

7.根据权利要求1所述的装置,其中所述光反射材料层包含选自铝Al、铬Cr、钼Mo、镍Ni、钽Ta及银Ag的群组的层。

8.根据权利要求1所述的装置,进一步包括安置于所述干涉吸收膜堆叠上的透明导电层。

9.根据权利要求1所述的装置,进一步包括安置于所述光反射材料层的与所述光吸收材料相对的表面上的反射性膜。

10.根据权利要求9所述的装置,其中所述反射性膜包含具有具第一折射率的第一材料及具第二折射率的第二材料的介电薄膜堆叠,所述第一材料及所述第二材料具有来自所述光源的光的波长的约四分之一的相应厚度。

11.根据权利要求1所述的装置,进一步包括安置于所述干涉吸收膜堆叠上方的流体层。

12.根据权利要求1所述的装置,其中所述光源包含发射分别以色彩红色、绿色及蓝色RGB居中的不同波长光谱处的光的一光源或多个光源。

13.根据权利要求12所述的装置,其中具有第一折射率的所述介电材料层具有约34nm的厚度且具有第二折射率的所述介电材料层具有约15nm的厚度。

14.根据权利要求1所述的装置,其中具有第一折射率的所述介电材料层包含二氧化硅SiO2且具有第二折射率的所述介电材料层包含二氧化钛TiO2

15.根据权利要求1所述的装置,其中所述衬底层包含用于阻断来自所述孔口的光或使所述光通过的可移动快门。

16.根据权利要求1所述的装置,进一步包括:

经配置以与所述显示器通信的处理器,所述处理器经配置以处理图像数据;及

经配置以与所述处理器通信的存储器装置。

17.根据权利要求16所述的装置,进一步包括:

驱动器电路,其经配置以将至少一信号发送到所述显示器;及

控制器,其经配置以将所述图像数据的至少一部分发送到所述驱动器电路。

18.根据权利要求16所述的装置,进一步包括:

图像源模块,其经配置以将所述图像数据发送到所述处理器,其中所述图像源模块包括接收器、收发器及发射器中的至少一者。

19.根据权利要求16所述的装置,进一步包括:

输入装置,其经配置以接收输入数据且将所述输入数据传达到所述处理器。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皮克斯特隆尼斯有限公司,未经皮克斯特隆尼斯有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380056880.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top