[发明专利]包含硅氧烷化合物的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷组合物来调节表面能的防反射膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种既具有低折射率，还可以形成调节表面能的涂敷层的防反射涂敷组合、利用该防反射涂敷组合物的防反射膜及上述防反射膜的制备方法，更详细地，涉及防反射膜及其制备方法，上述防反射膜及其制备方法使用防反射涂敷组合物来形成涂敷层，从而使反射率最小化并调节表面能，上述防反射涂敷组合物作为粘结剂，包含将含有氟烷基的有机硅烷(organosilane)和烷氧基硅烷以规定重量比反应而合成的硅氧烷化合物。

背景技术

在显示器暴露于各种照明和自然光等的外光的情况下，随着在显示器的内部形成的图像因反射光而未能鲜明地凝聚在眼中，使得产生的对比度(contrast)降低，从而不仅难以看到画面，还会使眼睛感到疲劳或引发头痛。由于这种理由，使得对防反射的要求也在逐渐强烈。

就形成有单层防反射膜的基板而言，将基板定义为基板的折射率为n_s、单层防反射膜的折射率为n的情况下，防反射膜的反射率R的最小值表示为(n_s-n²)²/(n_s+n²)²。上述反射率R的最小值是在n²＝n_s时出现，因此，单层防反射膜的折射率n越接近(n_s)^1/2，单层防反射膜的反射率越小。一般，考虑到在透明导电性膜中作为基板所使用的聚对苯二甲酸乙二酯的折射率n_s大约为1.54时，为了降低防反射膜的反射率R，优选地，防反射膜的折射率n尽可能接近大约1.22～1.24范围。

以往的防反射膜主要在透光性基材上配置防反射层，例如，在日本公开专利第2002-200690号中公开了上述防反射层从透光性基材一侧开始依次层迭硬涂层、厚度为1μm以下的高折射率层及低折射率层的三层结构。

并且，为了使制备工序简单，在日本公开专利第2000-233467中公开了在上述防反射层中省略高折射率层，并由硬涂层和低折射率层进行层迭的二层结构。

另一方面，通过作为低折射材料的中空型二氧化硅粒子的开发，进行了对于折射率非常低的低折射涂敷材料的研究。但是，利用现有的丙烯酸树脂来开发的低折射涂敷材料的情况下，折射率未能达到作为对防反射的上述理论性最佳值的1.22～1.24。为了改善这样的问题，进行了添加包含氟的高分子物质来降低折射率的努力，但产生了涂敷面的表面能过高的问题。并且，要求在二氧化硅粒子进行可以与丙烯酸树脂结合的表面处理，用于改善中空型二氧化硅粒子与丙烯酸树脂间的兼容性不好的问题。

在韩国公开专利第2004-0070225号中公开包含对烷氧基硅烷进行水解及缩合处理来获得的二氧化硅前驱体的涂敷组合物。但是，缩合硅烷化合物来进行热固化的方法由于以低温和短时间的热固化无法进行充分的固化，因此，为了具有充分的固化密度，需要高温或长时间的固化，从而具有制备费用提高且生产率变差的问题和损伤塑料膜基材或硬质涂敷层，尤其会使硬涂层因加热而收缩，产生裂纹的问题等。

并且，虽然也在考虑导入含氟的烷氧基硅烷来制备低折射率涂敷层的技术，但在这种情况下存在产生相分离等问题，从而在使用该技术上具有限制。

另一方面，在制备触摸感应面板(Touch Sensor Panel)等方面，需要适当地形成膜的表面的附着力，为此，可以考虑调节涂敷层的表面能，从而控制在涂敷层的表面的附着力。

因此，正处于持续要求开发可以不相分离地在基材形成既具有低折射率，还能呈现适当的表面能的二氧化硅涂敷层的方法的实情。

发明内容

本发明要解决的技术问题

为此，本发明人员为了开发将具有低折射率和适当的表面能的二氧化硅涂敷层涂敷于基材上的防反射膜而进行研究、努力，结果发现，在使用将含有氟烷基的有机硅烷和烷氧基硅烷以规定比例反应而合成的硅氧烷化合物作为粘结剂的涂敷液的情况下，可以制备出既不产生相分离现象，还具有低折射率，并在涂敷层的表面适当地调节对水的接触角的防反射膜，从而完成了本发明。

因此，本发明的目的在于，利用包含硅氧烷化合物粘结剂的涂敷液形成防反射层，来提供光学特性优秀且调节表面能的防反射膜及其制备方法，上述硅氧烷化合物是将含有氟烷基的有机硅烷和烷氧基硅烷以规定比率进行反应而合成的。

技术方案