[发明专利]基材的厚度控制在审
申请号: | 201380058100.3 | 申请日: | 2013-10-31 |
公开(公告)号: | CN104768883A | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | P·R·勒布朗克;C·R·尤斯坦尼克 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03B17/06 | 分类号: | C03B17/06;C03B18/04;C03B23/037 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 项丹;郭辉 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基材 厚度 控制 | ||
1.一种对玻璃基材的至少一个预选定部分的厚度进行控制的方法,所述方法包括:
产生激光束;以及
将激光束导向到处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分上,其中,所述玻璃基材的至少一个预选定部分的厚度未固定,所述激光束具有充足的能量以使得温度增加并且使得处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分的粘度降低至足以改变所述玻璃基材的至少一个预选定部分的厚度,从而使得所述玻璃基材的至少一个预选定部分获得预定的厚度。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述玻璃基材包括通过下拉玻璃成型法生产的玻璃带。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,将激光束导向到处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分上的步骤包括:将激光束导向到反射表面,激光束从所述反射表面反射到所述处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,将激光束导向到处于粘性状态的玻璃基材的多个预选定部分上。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,在玻璃基材的基本整个宽度上排列所述玻璃基材的多个预选定部分。
6.如权利要求4所述的方法,所述方法包括对激光束在所述处于粘性状态的玻璃基材的多个预选定部分的各自的停留时间进行选择性控制。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述玻璃基材包括至少两层玻璃层,所述至少两层玻璃层的至少一层包括处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,在所述至少两层玻璃层的至少两层中分别存在至少一个处于粘性状态的玻璃基材的预选定部分,并且激光束的波长使得分别存在于所述至少两层玻璃层的处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分处所吸收的各自量的能量足以使得温度增加并且使得所述分别存在于所述至少两层玻璃层中的玻璃基材的处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分的粘度降低至足以使得分别存在于所述至少两层玻璃层中的处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分获得各自所需的粘度。
9.一种配置成对玻璃基材的至少一个预选定部分的厚度进行控制的控制设备,所述控制设备包括:
激光产生器,其配置成产生和反射激光束,当将激光束导向到处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分上的时候,所述激光束具有充足的能量以使得温度增加并使得所述处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分的粘度下降,从而改变所述玻璃基材的至少一个预选定部分的厚度;以及
反射设备,其包含反射表面,所述反射表面配置成从激光产生器接收由所述激光产生器产生并发射的激光束,并将其反射到所述处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分上,其中
所述激光产生器和反射设备相对于玻璃基材排列,从而将通过反射表面反射的激光束反射到所述处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分上。
10.如权利要求9所述的控制设备,其特征在于,所述控制设备操作性地与下拉玻璃成型设备相连,所述下拉玻璃成型设备配置成产生玻璃带,所述玻璃带包括玻璃基材。
11.如权利要求9所述的控制设备,其特征在于,反射设备包括调节机制,其配置成相对于接受的激光束以及处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分的位置来调节反射设备的反射表面的姿势,从而能够将激光束从反射表面反射到所述处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分上。
12.如权利要求11所述的控制设备,其特征在于,所述调节机制包括检流计。
13.如权利要求11所述的控制设备,其特征在于,所述调节机制配置成,对于预选定的时间段,相对于接收的激光束和反射设备的反射表面处的激光束的反射,将反射设备的反射表面调节成多个不同姿势,从而能够对于各个预选定的时间段,将激光束导向到处于粘性状态的玻璃基材的多个预选定部分上,从而控制玻璃基材的各个预选定部分的厚度。
14.如权利要求10所述的控制设备,其特征在于,所述控制设备相对于下拉玻璃成型设备定位,使得能够将激光束从反射设备的反射表面导向到处于粘性状态的玻璃基材的至少一个预选定部分的玻璃基材上,其与下拉玻璃成型设备的玻璃成形楔形件的根部相邻。
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