[发明专利]无压力的臭氧化去离子水(DIO3)的再循环回收系统和方法有效
申请号: | 201380058623.8 | 申请日: | 2013-11-04 |
公开(公告)号: | CN104903245B | 公开(公告)日: | 2016-11-30 |
发明(设计)人: | J·H·塞沃特;U·A·布拉默;M·布拉查;G·J·施奈特 | 申请(专利权)人: | MKS仪器股份有限公司 |
主分类号: | B01D19/00 | 分类号: | B01D19/00;G03F7/42;H01L21/02;C02F1/78;C02F103/34 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张兰英 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 压力 臭氧 离子水 dio sub 再循环 回收 系统 方法 | ||
1.一种再循环臭氧化液体的系统,该系统包括:
接触器,接触器包括至少两个入口和至少两个出口,所述接触器在第一接触器入口处与第一流体源并在第二接触器入口处与第二液体源流体地连通,且所述第二接触器入口接收气体,该气体清除来自在所述第一接触器入口处接收的液体的气体的至少一部分,该清除的气体在第一接触器出口处流出所述接触器,
其中,所述接触器在第二接触器出口处与所述第二液体源流体地连通,该接触器排放所述接触器内所述液体的至少一部分,排放的液体在所述第二接触器出口处流出所述接触器,以及
其中,所述接触器包括与所述第一液体源流体地连通的第三入口,该第三入口允许所述第一液体源释放环境压力下的液体。
2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,在所述第一接触器入口处接收的液体的至少一部分包括:通过所述第二接触器出口从所述接触器排放的液体的至少一部分。
3.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述接触器包括与第三液体源流体地连通的第四入口,该第四入口从第三液体源接收新鲜液体,其替换从所述接触器排出的液体的至少一部分。
4.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述接触器包括任何填实的柱体、板柱体、或气泡柱体。
5.如权利要求1所述的系统,其特征在于,该系统还包括与接触器流体地连通的第一泵,第一泵通过以下方式与接触器流体地连通:通过a)与所述接触器的所述第二出口流体地连通的第一泵的至少一个入口,以及b)与所述第二液体源流体地连通的所述第一泵的出口。
6.如权利要求5所述的系统,其特征在于,所述第一泵的所述出口通过所述接触器的第四入口与所述接触器流体地连通。
7.如权利要求5所述的系统,其特征在于,所述第一泵包括离心泵。
8.如权利要求1所述的系统,其特征在于,该系统还包括自毁部件,所述自毁部件包括至少一个入口,该自毁部件的所述入口与所述第一接触器出口流体地连通。
9.如权利要求8所述的系统,其特征在于,所述自毁部件的所述入口接收由所述接触器清除的气体的至少一部分。
10.如权利要求9所述的系统,其特征在于,用CDA或其它惰性气体,加热或稀释在所述自毁部件的所述第一入口处接收的气体。
11.如权利要求9所述的系统,其特征在于,所述自毁部件的所述出口排出在所述自毁部件所述入口处接收的清除的气体的至少一部分。
12.如权利要求10所述的系统,其特征在于,测量所述自毁部件所述出口处的气体流动,该信息用于系统的控制。
13.如权利要求11所述的系统,其特征在于,所述自毁部件使用催化剂来将接收的气体转换为氧气,并通过所述自毁部件的所述出口排出氧气。
14.如权利要求13所述的系统,其特征在于,所述催化剂包括以下中的任何一个:(i)基于氧化锰的产物或(ii)基于碳的产物。
15.如权利要求1所述的系统,其特征在于,(i)在所述接触器所述第一入口处被接收或(ii)从所述接触器所述第二出口处排出的任何的液体包括臭氧化的去离子水(DIO3)。
16.如权利要求1所述的系统,其特征在于,在所述接触器所述第一入口处接收的气体包括:(i)O3,(ii)O2,(iii)CO2,(iv)N2,(iv)清洁的干空气(CDA),(v)惰性气体,(vi)掺杂气体,(vii)废气,(viii)来自第二液体源的废气,或它们的任何组合。
17.如权利要求1所述的系统,其特征在于,从所述液体中清除的气体的所述部分包括:(i)O3,(ii)O2,(iii)CO2,或它们的任何组合。
18.如权利要求17所述的系统,其特征在于,在所述接触器所述第一入口处接收的所述气体是来自所述第二液体源的废气。
19.如权利要求1所述的系统,其特征在于,第一液体源包括用于半导体制造工艺中的工具。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于MKS仪器股份有限公司,未经MKS仪器股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380058623.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于水脱盐的设备及该设备的使用以及过程
- 下一篇:制造高纯度氧化铝的方法