[发明专利]隐藏导电迹线的材料、制品、和方法在审

专利信息
申请号: 201380059025.2 申请日: 2013-11-12
公开(公告)号: CN104781768A 公开(公告)日: 2015-07-15
发明(设计)人: 郝恩才;阿卜杜贾巴尔·卡迪尔·迪雷;艾伯特·I·埃费拉茨;中田绫;罗斯·E·贝林;居伊·D·乔利;戴维·B·奥尔森 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 丁业平;金小芳
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 隐藏 导电 材料 制品 方法
【权利要求书】:

1.一种制品,所述制品包括:

图案化基板,所述图案化基板包括具有与其相邻的无机导电迹线的基板表面,其中所述基板和所述迹线的无机材料各自具有折射率;和

与所述基板表面的至少一部分和所述无机导电迹线相邻的层,所述层包含聚合的丙烯酸酯基质,其中所述聚合的丙烯酸酯基质的折射率在所述基板的折射率与所述迹线的无机材料的折射率的平均值的±10%以内。

2.根据权利要求1所述的制品,其中所述聚合的丙烯酸酯基质包含分散于其中的无机纳米粒子。

3.根据权利要求2所述的制品,其中所述无机纳米粒子以不大于60体积百分比的量存在于所述聚合的丙烯酸酯基质中。

4.根据权利要求2所述的制品,其中所述无机纳米粒子包含氧化锆、二氧化钛、ZnS、ZnO、锡氧化物、锑氧化物、或它们的组合。

5.根据权利要求2所述的制品,其中所述无机纳米粒子是表面改性的无机纳米粒子。

6.根据权利要求5所述的制品,其中表面改性的无机纳米粒子包含表面改性剂,所述表面改性剂包含硅烷官能团、羟基脲官能团、酸官能团、或它们的组合。

7.根据权利要求1所述的制品,其中所述聚合的丙烯酸酯基质的折射率在所述基板的折射率与所述迹线的无机材料的折射率的平均值的±5%以内。

8.根据权利要求1所述的制品,其中所述聚合的丙烯酸酯基质是由(甲基)丙烯酸酯单体、(甲基)丙烯酰胺单体、(甲基)丙烯酸酯官能低聚物、(甲基)丙烯酰胺官能低聚物、具有(甲基)丙烯酰基侧基和任选的羟基基团的(甲基)丙烯酸酯共聚物、无机纳米粒子上的(甲基)丙烯酸酯衍生的低聚或聚合基团、无机纳米粒子上的(甲基)丙烯酰胺衍生的低聚或聚合基团、或它们的组合中的一者或多者形成的。

9.根据权利要求1所述的制品,其中所述聚合的丙烯酸酯基质包含芳族基团。

10.根据权利要求1所述的制品,其中所述无机导电迹线包含铟锡氧化物、掺杂ZnO、或锑锡氧化物。

11.根据权利要求1所述的制品,其中所述基板包括玻璃、聚对苯二甲酸乙二酯、环烯烃共聚物、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、或偏振膜。

12.根据权利要求1所述的制品,其中所述基板是透明显示器基板或其一部分,所述透明显示器基板选自镜片、触摸传感器、光发射显示器、或光反射显示器。

13.一种制备制品的方法,所述方法包括:

提供图案化基板,所述图案化基板包括具有与其相邻的无机导电迹线的基板表面,其中所述基板和所述迹线的无机材料各自具有折射率;以及

将聚合的丙烯酸酯基质施加至所述图案化基板表面的至少一部分;

其中所述聚合的丙烯酸酯基质的折射率在所述基板的折射率与所述迹线的无机材料的折射率的平均值的±10%以内。

14.根据权利要求13所述的方法,其中施加聚合的丙烯酸酯基质包括将层合物施加至所述图案化基板表面的至少一部分,其中所述层合物包括:

包含光学透明的粘合剂的层;和

与所述包含光学透明的粘合剂的层相邻的包含聚合的丙烯酸酯基质的层;

其中所述层合物被定位成使得所述聚合的丙烯酸酯基质设置在所述图案化基板表面与所述光学透明的粘合剂之间。

15.一种涂布方法,所述方法包括:

提供图案化基板,所述图案化基板包括具有与其相邻的无机导电迹线的基板表面,其中所述基板和所述迹线的无机材料各自具有折射率;

将涂料组合物施用至所述图案化基板表面的至少一部分以形成带涂层的表面,其中所述涂料组合物包含可聚合的丙烯酸酯基质;

以及

使所述可聚合的丙烯酸酯基质聚合,以形成包含聚合的丙烯酸酯基质的层;

其中所述聚合的丙烯酸酯基质的折射率在所述基板的折射率与所述迹线的无机材料的折射率的平均值的±10%以内。

16.根据权利要求15所述的方法,所述方法还包括将光学透明的粘合剂施加在所述带涂层的表面上,其中使所述可聚合的丙烯酸酯基质聚合是在施加所述光学透明的粘合剂之前或之后发生的。

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