[发明专利]成膜掩模的制造方法以及成膜掩模

权利要求书

1.一种用于在基板上成膜形成多个薄膜图案的成膜掩模的制造方法，其特征在于，进行以下步骤：

第一步骤，在该步骤中，形成使磁性金属部件与树脂制造的膜片密接了的掩模用部件，其中所述磁性金属部件在与所述多个薄膜图案以及预先设置于所述基板的多个基板侧对准标记对应的位置设置有形状尺寸比该薄膜图案以及基板侧对准标记大的多个第一贯通孔以及第二贯通孔；

第二步骤，在该步骤中，在框状的框架的一端面架设所述掩模用部件，并在该框架的一端面接合所述磁性金属部件的周缘部，其中在所述框状的框架设置有内含所述磁性金属部件的多个所述第一贯通孔以及第二贯通孔的大小的开口；以及

第三步骤，在该步骤中，向所述第一贯通孔内的与所述薄膜图案对应的位置的所述膜片部分照射激光而形成形状尺寸与所述薄膜图案相同的开口图案，并且向所述第二贯通孔内的与所述基板侧对准标记对应的位置的所述膜片部分照射激光而形成掩模侧对准标记。

2.根据权利要求1所述的成膜掩模的制造方法，其特征在于，

在所述第三步骤进行以下步骤：

边使所述激光的照射位置步进移动预先决定的距离边在多个所述第一贯通孔内的所述膜片部分分别形成开口图案并读取XY平面内的各开口图案的坐标且将其保存的步骤、

读出所述被保存的所述各开口图案的坐标并计算出平均值从而计算出形成有多个所述开口图案的开口图案形成区域内的中心位置坐标的步骤、以及

在以所述计算出的中心位置坐标为基准分离一定距离的所述第二贯通孔内的位置形成所述掩模侧对准标记的步骤。

3.根据权利要求1所述的成膜掩模的制造方法，其特征在于，

在所述第三步骤进行以下步骤：

在多个所述第二贯通孔中被选择出的一个第二贯通孔内的所述膜片部分形成所述掩模侧对准标记的步骤、以及

以所形成的所述掩模侧对准标记为基准边使所述激光的照射位置步进移动预先决定的距离边在多个所述第一贯通孔内的膜片部分分别形成所述开口图案并且在其他的所述第二贯通孔内的膜片部分形成其他的掩模侧对准标记的步骤。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的成膜掩模的制造方法，其特征在于，

多个所述第一贯通孔具有矩形形状，并以一定间隔呈矩阵状设置于所述磁性金属部件，多个所述开口图案在多个所述第一贯通孔内分别各形成有一个。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的成膜掩模的制造方法，其特征在于，

多个所述第一贯通孔具有条纹状的形状，并以一定间隔平行地设置于所述磁性金属部件，多个所述开口图案具有条纹状的形状，并在多个所述第一贯通孔内分别各形成有一个。

6.一种成膜掩模，

其通过权利要求1～3中任一项所述的制造方法被制造而成。

7.一种成膜掩模，

其通过权利要求4所述的制造方法被制造而成。

8.一种成膜掩模，

其通过权利要求5所述的制造方法被制造而成。