[发明专利]化妆材料

说明书

技术领域

本发明为涉及通过环状低分子硅氧烷来防止化妆材料的触感和稳定性受损的化妆材料的发明。另外，本发明还为涉及不仅稳定性和触感不受损，发泡性也不受损的毛发化妆材料的发明。

背景技术

由于硅油为无色无味且其化学性和生理性也为惰性，因此被广泛利用在化妆材料方面。其中的高粘度有机聚硅氧烷由于对毛发的附着性良好，也经常被用在毛发化妆材料方面。

但是，若直接乳化高粘度有机聚硅氧烷，则乳浊液粒子的平均粒径达到数微米程度已为极限。由于难以得到数微米程度以上的微细的乳浊液粒子，因此乳浊液的稳定性低。

在此，为了提高乳浊液的稳定性进而得到微细的乳浊液粒子，对通过乳液聚合的制备乳浊液的方法进行了各种研究。已知，例如，在已乳化环状硅氧烷低聚物的状态下通过强酸或强碱进行乳液聚合的方法(专利文献1、2以及3)。但是，以上所有的方法中全部在乳浊液中产生1000质量ppm以上的八甲基环四硅氧烷。因此，在将其乳浊液配合在化妆材料时，则会产生所说的有损稳定性和触感的问题。

进一步，近年来，八甲基环四硅氧烷作为环境载荷物质则使人望而止步。因此人们寻求一种八甲基环四硅氧烷含量得到抑制的化妆材料。

现有技术文献

专利文献

专利文献1日本特公昭34-2041号公报

专利文献2日本特公昭41-13995号公报

专利文献3日本专利第3145394号

发明内容

发明要解决的问题

因此，本发明的目的在于，通过环状低分子硅氧烷，提供一种不损伤稳定性和触感的化妆材料。另外，还提供一种不仅不损伤稳定性和触感，也不损伤发泡性的毛发化妆材料。

用于解决问题的方案

鉴于这种情况，本发明人反复深入研究，结果发现了通过乳液聚合，进而得到八甲基环四硅氧烷含量为1000质量ppm以下的有机聚硅氧烷乳浊液，并且发现了，通过使用这种方法所得到的有机聚硅氧烷乳浊液的化妆材料能够解决上述问题的途径，从而达到完成本发明的目的。

即，本发明为提供以下化妆材料者。

其(i)，一种化妆材料，其含有：0.1质量％以上的(a)通过乳液聚合所获得，且八甲基环四硅氧烷的含量为1000质量ppm以下的有机聚硅氧烷乳浊液。

其(ii)，如(i)所述的化妆材料，其特征在于，所述(a)的有机聚硅氧烷乳浊液通过使下述通式(1)所表示的有机聚硅氧烷乳液聚合而获得，

HO(R¹₂SiO)_nH     (1)

(通式中，R¹独立地为氢原子、或者取代或未取代的碳原子数1～20的烃基。n为所述有机聚硅氧烷在25℃时的粘度成为3000～100000mm²/s的数。)

其(iii)，如(i)或(ii)所述的化妆材料，其特征在于，所述(a)的有机聚硅氧烷乳浊液通过下述方法制备：

其(I)，使包含下述成分的混合物进行乳化，进而制备第一乳浊液组合物，

(A)下述通式(1)所表示的八甲基环四硅氧烷的含量为1000质量ppm以下的有机聚硅氧烷       100质量份

HO(R¹₂SiO)_nH       (1)

(通式中，R¹独立地为氢原子、或者取代或未取代的碳原子数1～20的一价烃基。n为该有机聚硅氧烷在25℃时的粘度成为3000～100000mm²/s的数。)，

(B)非离子型表面活性剂               1～100质量份

(C)阴离子型表面活性剂                1～100质量份

(但，其范围为(B)成分：(C)成分的质量比＝1：99～65：35。)，以及

(D-1)水

其(II)，往该第一乳浊液组合物中加入(D-2)100000质量份以下的水后或者不加水而直接在低于40C的温度且(E)酸催化剂的存在下(但，在(C)阴离子型表面活性剂具有催化剂作用的情况下则不需要该酸催化剂)，通过乳液聚合进行制备。

其(iv)，如(ii)或(iii)所述的化妆材料，其特征在于，乳液聚合时的温度为-15～5℃。