[发明专利]HDD用玻璃基板及其制造方法以及信息记录介质的制造方法

说明书

本发明的HDD用玻璃基板的制造方法是用于制造记录密度为630Gb/平方英寸以上的HDD用玻璃基板的制造方法，包括：精密研磨工序，使用含有胶体二氧化硅且pH为4以下的研磨液将玻璃基板研磨到其表面粗糙度Ra成为以下为止；超声波清洗工序，利用高频波清洗；浸渍工序，浸渍到包含分散剂且pH为6.5至8.5的溶液中5分钟以上；以及擦洗工序，进行擦洗。

技术领域

本发明涉及记录密度为630Gb/平方英寸以上的HDD用玻璃基板的制造方法。

背景技术

近年来，随着装载有信息记录介质的信息记录装置(例如，硬盘驱动器HDD)的存储容量增加，所使用的信息记录介质(介质)被要求更高的质量水平。为了增加存储容量，需要提高记录密度，而为此需要减小磁头的浮动高度(flying height)。因此，信息记录介质需要具有作为质量水平之一的高平滑性。近年来，浮动高度被设定得小到数nm。所以，如果在介质的表面稍微残留研磨剂或异物，就会发生让读取磁头撞上的磁头碰撞(head crash)，成为读取错误的原因之一。因而，为介质使用的HDD用玻璃基板(以下，有时仅称为玻璃基板)被要求比以往更严格的清洁性。

作为提高清洁性的方法，例如已提出使研磨工序后的玻璃基板与液体相接触从而使其变得易于去除附着物，之后对玻璃基板进行擦洗等方法(参照专利文献1)。

但是，新一代的适应面记录密度630Gb/平方英寸的玻璃基板发生如下问题：虽然它的平滑性和清洁性都没有问题，但在玻璃基板上形成磁性膜(磁性薄膜)后造成读取精度降低。经过详细研究该问题的结果发现，设有磁性层(磁性薄膜)的玻璃基板的电磁转换特性(signal-noise ration，信噪比)发生偏差，该信噪比的偏差成为读/写错误的主要原因，引起读取精度的降低。而且，经过详细研究的结果发现这种磁力信号的信噪比偏差的主要原因为如下。

即，一般而言，玻璃基板在制造后先被密封包装并输送，然后被取出，在其表面上形成磁性薄膜(磁性膜、磁性层)。此时，为了更可靠地防止微小异物(碎屑)附着在玻璃基板上并使该玻璃基板的表面均匀化，利用碱性溶液等清洗性能较高的清洗剂来清洗玻璃基板(专利文献2)。经研究发现：当制造玻璃基板后的包装、输送等时，玻璃基板的表面在微小的范围内变得不均匀，在形成磁性膜前的清洗过程中玻璃表面的稳定状态被破坏(表面粗糙度Ra发生变化)，从而引起如上所述的磁力信号的信噪比的偏差。由此发现，即使在制造玻璃基板后就进行检查，也无法查到原因。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公报第4623210号

专利文献2：日本专利公开公报特开2006-127624号

发明内容

本发明鉴于这种以往的问题而做，其目的在于提供一种HDD用玻璃基板的制造方法，能够一并实现对磁性膜形成前的碱性清洗的耐受性和表面的清洁性，并能一并防止表面粗糙度Ra的变化和信噪比的降低。

鉴于上述问题，本发明人着眼于如下现象而完成了本发明，即：在超声波清洗工序和擦洗工序之间，通过使玻璃基板浸渍于含有分散剂且被调整为指定pH的溶液中一定时间，就能够一并实现对磁性膜形成前的碱性清洗的耐受性(信噪比的降低)和表面的清洁性。

即，本发明的一方面所涉及的HDD用玻璃基板的制造方法是用于制造记录密度为630Gb/平方英寸以上的HDD用玻璃基板的制造方法，包括：精密研磨工序，使用含有胶体二氧化硅且pH为4以下的研磨液对玻璃基板进行研磨，直到由AFM测量的表面粗糙度Ra(测量范围：各边1μm的正方形)成为以下为止；超声波清洗工序，利用高频波对所述精密研磨工序后的玻璃基板进行清洗；浸渍工序，将所述超声波清洗工序后的玻璃基板浸渍于含有分散剂且pH为6.5至8.5的溶液中5分钟以上；以及擦洗工序，对所述浸渍工序后的玻璃基板进行擦洗。

通过以下详细的说明和附图来进一步澄清本发明的目的、特征及优点。