[发明专利]转印薄膜及透明层叠体、它们的制造方法、静电电容型输入装置以及图像显示装置在审
申请号: | 201380061129.7 | 申请日: | 2013-11-21 |
公开(公告)号: | CN104812569A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 汉那慎一;伊藤英明 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B7/02 | 分类号: | B32B7/02;G06F3/041;H01B5/14 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 透明 层叠 它们 制造 方法 静电 电容 输入 装置 以及 图像 显示装置 | ||
1.一种转印薄膜,其特征在于,依次具有:
临时支承体;
第1固化性透明树脂层;及
第2固化性透明树脂层,与该第1固化性透明树脂层相邻配置,
所述第2固化性透明树脂层的折射率高于所述第1固化性透明树脂层的折射率,
所述第2固化性透明树脂层的折射率为1.6以上。
2.根据权利要求1所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性透明树脂层的折射率为1.5~1.53。
3.根据权利要求1或2所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明树脂层的折射率为1.65以上。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明树脂层的膜厚为500nm以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明树脂层的膜厚为100nm以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性透明树脂层的膜厚为1μm以上。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性透明树脂层包含可聚合化合物及光聚合性引发剂。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性透明树脂层的双键消耗率为10%以下。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明树脂层含有折射率为1.55以上的颗粒。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明树脂层包含可聚合化合物。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性树脂层及所述第2固化性树脂层均为热固化性树脂层。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的转印薄膜,其特征在于,
在所述临时支承体与所述第1固化性透明树脂层之间具有热塑树脂层。
13.根据权利要求12所述的转印薄膜,其特征在于,
在所述第1固化性透明树脂层与所述热塑性树脂层之间还具有中间层。
14.一种转印薄膜的制造方法,其特征在于,具有以下工序;
(b)在临时支承体上形成包含可聚合化合物及光聚合引发剂的第1固化性透明树脂层的工序;
(c)通过曝光,固化所述第1固化性透明树脂层的工序;及
(d)在固化后的所述第1固化性透明树脂层上直接形成第2固化性透明树脂层的工序,
所述第2固化性透明树脂层的折射率高于所述第1固化性透明树脂层的折射率,
所述第2固化性透明树脂层的折射率为1.6以上。
15.根据权利要求14所述的转印薄膜的制造方法,其特征在于,
在所述临时支承体上形成所述第1固化性透明树脂层之前,还包含(a)形成热塑性树脂层的工序。
16.一种透明层叠体的制造方法,其特征在于,
包含在透明电极图案上依次层叠权利要求1~13中任一项所述的转印薄膜的所述第2固化性透明树脂层及所述第1固化性透明树脂层的工序。
17.根据权利要求16所述的透明层叠体的制造方法,其特征在于,
所述透明层叠体的制造方法还包含去除所述临时支承体的工序。
18.一种透明层叠体,其特征在于,
通过权利要求16或17所述的透明层叠体的制造方法制造。
19.一种透明层叠体,其特征在于,具有:
透明电极图案;
第2固化性透明树脂层,与该透明电极图案相邻配置;及
第1固化性透明树脂层,与该第2固化性透明树脂层相邻配置,
所述第2固化性透明树脂层的折射率高于所述第1固化性透明树脂层的折射率,
所述第2固化性透明树脂层的折射率为1.6以上。
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