[发明专利]装备有部分金属层的堆叠体的基材、窗玻璃和方法有效
申请号: | 201380061163.4 | 申请日: | 2013-11-22 |
公开(公告)号: | CN105307995B | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | L.阿尔扎特;D.达尔马斯;E.巴特尔;D.尼古拉;B.乔治 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂;法国国家科学研究中心 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36;E06B3/36 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黄念;杨思捷 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装备 部分 金属 堆叠 基材 窗玻璃 方法 | ||
1.在一个面(31)上用薄层堆叠体(34, 35, 36)涂覆的基材(30),该薄层堆叠体包含至少一个基于银的或者由银制成的金属功能层(140, 180, 220)和两个抗反射涂层(120,160, 200, 240),所述抗反射涂层每个包含至少一个抗反射层(124, 164, 204, 244),所述金属功能层(140)被设置在两个抗反射涂层(120, 160)之间,特征在于每个金属功能层(140, 180, 220)是具有为50%至98%的表面面积占据系数的不连续层,该不连续层是具有呈互相连接的岛形式的结构的自结构化层,在所述岛之间具有未覆盖区域。
2.根据权利要求1的基材(30),特征在于每个不连续金属功能层(140, 180, 220)具有厚度e:
- 1.0≤e≤4.5nm,被沉积在基于二氧化钛TiO2的层上,或
- 1.0≤e≤4.5nm,被沉积在基于氧化锌锡SnZnOx的层上,或
- 1.0≤e≤5.0nm,被沉积在基于氧化锌ZnO的层上,或
- 1.0≤e≤7.0nm,被沉积在基于氮化硅Si3N4的层上,或
- 1.0≤e≤5.0nm,被沉积在基于镍的层上。
3.根据权利要求1或2的基材(30),特征在于所述设置在所述面(31)和第一或唯一不连续金属功能层(140)之间的抗反射涂层(120)包含由在550nm具有1.8至2.2的折光指数的材料制成的中等指数抗反射层(124)。
4.根据权利要求1或2的基材(30),特征在于所述设置在每个不连续金属功能层(140,180, 220)下方的抗反射涂层(120, 160, 200)包含由在550nm具有1.8至2.2的折光指数的材料制成的中等指数抗反射层(124, 164, 204)。
5.根据权利要求1或2的基材(30),特征在于所述设置在所述面(31)和第一或唯一不连续金属功能层(140)之间的抗反射涂层(120)包含由在550nm具有2.3至2.7的折光指数的材料制成的高指数抗反射层(124)。
6.根据权利要求1或2的基材(30),特征在于所述设置在每个不连续金属功能层(140,180, 220)下方的抗反射涂层(120, 160, 200)包含由在550nm具有2.3至2.7的折光指数的材料制成的高指数抗反射层(124, 164, 204)。
7.根据权利要求1或2的基材(30),特征在于所述在与所述面(31)相反一侧上,在第一或唯一不连续金属功能层(140)上方设置的抗反射涂层(160)包含由在550nm具有1.8至2.2的折光指数的材料制成的中等指数抗反射层(164)。
8.根据权利要求1或2的基材(30),特征在于所述在与所述面(31)相反一侧上,在每个不连续金属功能层(140, 180, 220)上方设置的抗反射涂层(160, 200, 240)包含由在550nm具有1.8至2.2的折光指数的材料制成的中等指数抗反射层(164, 204, 244)。
9.根据权利要求1或2的基材(30),特征在于所述在与所述面(31)相反一侧上,在第一或唯一不连续金属功能层(140)上方设置的抗反射涂层(160)包含由在550nm具有2.3至2.7的折光指数的材料制成的高指数抗反射层(164)。
10.根据权利要求1或2的基材(30),特征在于所述在与所述面(31)相反一侧上,在每个不连续金属功能层(140, 180, 220)上方设置的抗反射涂层(160, 200, 240)包含由在550nm具有2.3至2.7的折光指数的材料制成的高指数抗反射层(164, 204, 244)。
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