[发明专利]组合物用于减少通过水溶性膜渗出和迁移的用途在审
申请号: | 201380061599.3 | 申请日: | 2013-12-05 |
公开(公告)号: | CN104812883A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | R·拉比克;K·A·L·范埃尔森 | 申请(专利权)人: | 宝洁公司 |
主分类号: | C11D3/43 | 分类号: | C11D3/43;C11D17/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 樊云飞;王颖 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 用于 减少 通过 水溶性 渗出 迁移 用途 | ||
1.一种组合物的用途,所述组合物包含:
a)阴离子表面活性剂;和
b)溶剂体系,所述溶剂体系包含至少一种汉森溶解度(δ)小于29的主溶剂,所述组合物被封装在水溶性膜中,用于减少所述组合物通过所述膜的迁移和渗出。
2.根据前述权利要求所述的用途,其中所述主溶剂具有小于1500,更优选地小于1000,甚至更优选地小于700的分子量。
3.根据前述权利要求中任一项所述的用途,其中所述主溶剂具有大于-1.0的cLog P。
4.根据前述权利要求中任一项所述的用途,其中所述主溶剂具有小于20.5的氢键分量。
5.根据前述权利要求中任一项所述的用途,其中所述水溶性膜选自具有式V的那些:
[Y]-[G]n
式V
其中Y表示乙烯醇单体,并且G表示包含阴离子基团的单体,所述阴离子基团选自OSO3M、SO3M、CO2M、OCO2M、OPO3M2、OPO3HM和OPO2M,并且下标n为1至X。
6.根据权利要求5所述的用途,其中G选自羧酸,更优选地G选自马来酸、衣康酸、coAMPS、丙烯酸、乙烯基乙酸、乙烯基磺酸、烯丙基磺酸、乙烯磺酸、2丙烯酰胺1甲基丙磺酸、2丙烯酰胺2甲基丙磺酸、2甲基丙烯酰胺2甲基丙磺酸以及它们的混合物。
7.根据前述权利要求中任一项所述的用途,其中所述阴离子表面活性剂的含量为2%至60%,优选地7%至50%,最优选地10%至40%。
8.根据前述权利要求中任一项所述的用途,其中所述主溶剂选自分子量介于400和600之间的聚乙二醇(PEG)聚合物、双丙二醇(DPG)、正丁氧基丙氧基丙醇(nBPP)以及它们的混合物。
9.根据前述权利要求中任一项所述的用途,其中所述主溶剂的含量为1至25%,优选地2.5至20%,最优选地4至19%。
10.根据前述权利要求中任一项所述的用途,其中所述溶剂体系还包含第二溶剂,所述第二溶剂选自甘油、水以及它们的混合物。
11.根据权利要求11所述的用途,其中所述第二溶剂为甘油,并且其含量按所述组合物的重量计小于5%,更优选地小于4%,最优选地小于3%。
12.根据权利要求11所述的用途,其中所述第二溶剂为水,并且其含量按所述组合物的重量计小于20%,更优选地小于15%,最优选地小于10%。
13.根据权利要求10-12所述的用途,其中主溶剂与甘油的比率为7:1至1:5,更优选地6.5:1至1:3,最优选地3:1至1:1。
14.根据前述权利要求中任一项所述的用途,其中所述组合物包含调色染料。
15.根据权利要求14所述的用途,其中所述调色染料选自具有下式I的组:
[D]-[A]n
式I
其中D表示染料的残基,其包含发色团,并且A为选自OSO3M、SO3M、CO2M、OCO2M、OPO3M2、OPO3HM和OPO2M的部分,M选自氢、碱金属离子或碱土金属离子,并且下标n为1至6的整数。
16.根据权利要求15所述的用途,其中在式I中,A选自OSO3M、SO3M、CO2M和OCO2M。
17.根据权利要求15或16中任一项所述的用途,其中M选自氢、钠或钾离子。
18.根据权利要求15至17中任一项所述的用途,其中所述下标n为1至4,优选地n为1或2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宝洁公司,未经宝洁公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380061599.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:新型MVA病毒及其用途
- 下一篇:清洗剂组合物