[发明专利]硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置以及有机EL显示装置在审
申请号: | 201380063293.1 | 申请日: | 2013-12-04 |
公开(公告)号: | CN104838316A | 公开(公告)日: | 2015-08-12 |
发明(设计)人: | 佐竹亮;米泽裕之 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/38 | 分类号: | G03F7/38;C08F212/14;C08F220/26;C08F220/28;C08F220/56;G03F7/039;G03F7/40;H01L21/027;H01L51/50;H05B33/22;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硬化 制造 方法 液晶 显示装置 以及 有机 el | ||
1.一种硬化膜的制造方法,其依次包括:
(1)将感光性树脂组合物涂布于基板上的步骤;
(2)自感光性树脂组合物中去除溶剂的步骤;
(3)利用pKa为3以下的溶液对去除了溶剂的感光性树脂组合物进行洗涤的步骤;
(4)利用光化射线对感光性树脂组合物进行曝光的步骤;
(5)利用水性显影液对经曝光的感光性树脂组合物进行显影的步骤;以及
(6)对经显影的感光性树脂组合物进行热硬化的后烘烤步骤;并且
所述感光性树脂组合物含有:
(A)聚合物成分,包含满足下述(A1)及(A2)的至少一者的聚合物:
(A1)包括(a1)具有酸基由酸分解性基所保护的残基的构成单元及(a2)具有交联性基的构成单元的聚合物、
(A2)包括(a1)具有酸基由酸分解性基所保护的残基的构成单元的聚合物及包括(a2)具有交联性基的构成单元的聚合物;
(B)光酸产生剂;以及
(C)溶剂。
2.根据权利要求1所述的硬化膜的制造方法,其中所述水性显影液为碱性显影液。
3.根据权利要求1或2所述的硬化膜的制造方法,其中(a2)具有交联性基的构成单元含有包含选自由环氧基、氧杂环丁基、-NH-CH2-O-R(R为氢原子或碳数1~20的烷基)所表示的基团以及乙烯性不饱和基所组成的组群中的至少一者的构成单元。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的硬化膜的制造方法,其中所述pKa为3以下的溶液为有机酸。
5.根据权利要求4所述的硬化膜的制造方法,其中所述有机酸实质上不含氟以外的卤素原子。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的硬化膜的制造方法,其中在所述显影步骤后、所述后烘烤步骤前包括对经显影的感光性树脂组合物进行全面曝光的步骤。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的硬化膜的制造方法,其中所述硬化膜为层间绝缘膜。
8.一种硬化膜,其是利用根据权利要求1至7中任一项所述的硬化膜的制造方法来形成。
9.一种有机电致发光显示装置或者液晶显示装置,其具有根据权利要求8所述的硬化膜。
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