[发明专利]致动机构、光学设备、光刻设备以及制造器件的方法有效
申请号: | 201380063824.7 | 申请日: | 2013-09-17 |
公开(公告)号: | CN104871090B | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | J·范肖特;S·霍尔;E·比伊斯;E·雷克斯;G·德弗里斯;H·博特玛;M·范达姆;R·范戈科姆 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B7/182;G02B26/08 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华,吕世磊 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 机构 光学 设备 光刻 以及 制造 器件 方法 | ||
1.一种用于提供具有至少两个自由度的运动的致动机构,所述机构包括移动部分和静止部分,所述移动部分包括具有被约束为在工作区域之上移动的磁面的永磁体,所述工作区域位于垂直于所述永磁体的磁化的方向的第一平面中,所述静止部分包括具有极面的至少两个电磁体,所述极面位于与所述第一平面接近平行的第二平面中,所述极面在所述第二平面中的中心位置周围对称分布并且在由所述永磁体的所述磁面横切的整个区域之上延伸,
其中每个电磁体是具有第一极面和第二极面的双极电磁体,所述第一极面和所述第二极面在所述第二平面中彼此径向相对地定位,
其中电磁体极面的数目为四个,每个所述极面具有圆或环的四分之一的形式,所述极面一起覆盖所述第二平面中的圆形或环形区域。
2.根据权利要求1所述的机构,所述机构具有延长的形式,所述延长的形式具有垂直于所述第一平面和所述第二平面的纵轴,其中所述移动部分被约束为在所述永磁体在所述工作区域之上移动时绕与所述纵轴正交的第一轴线和第二轴线倾斜。
3.根据权利要求1或2所述的机构,其中所述永磁体的所述磁面与所述电磁体的所述极面之间的间隙小于所述磁面的宽度的20%。
4.根据权利要求3所述的机构,其中所述永磁体的所述磁面与所述电磁体的所述极面之间的所述间隙小于所述磁面的宽度的15%。
5.根据权利要求4所述的机构,其中所述永磁体的所述磁面与所述电磁体的所述极面之间的所述间隙小于所述磁面的宽度的10%。
6.根据权利要求1或2所述的机构,其中每个极面位于其相应的电磁体的延长的铁磁芯的远端,并且其中与极面径向相对的芯具有通过铁磁材料连接在一起的近端。
7.根据权利要求6所述的机构,其中所有芯的近端经由共用铁磁基部被连接。
8.根据权利要求1或2所述的机构,还包括至少包围所述永磁体的铁磁屏蔽件,以便在多个这样的致动机构被并排放置时将所述永磁体与机构屏蔽。
9.根据权利要求1或2所述的机构,还包括位置传感器,所述位置传感器被配置为监测所述移动部分的位置以使得能够对所述位置进行反馈控制,所述位置传感器被配置为将辐射束引导在反射表面处,所述反射表面被布置为与所述机构的所述移动部分一起移动并且检测从所述反射表面反射的辐射束。
10.根据权利要求9所述的机构,其中所述反射表面在所述永磁体上,并且所述位置传感器被配置为通过在所述电磁体之间的中心空间将所述辐射束引导在所述永磁体处,并且检测通过相同的中心空间从所述永磁体反射的所述辐射束的偏转。
11.根据权利要求9所述的机构,其中所述位置传感器被配置为沿着光轴引导所述辐射束,其中被引导的所述辐射束的输出被定位在所述光轴上,而被配置为检测经反射的所述辐射束的光电检测器包围所述光轴,使得被引导的束通过所述光电检测器的中心。
12.根据权利要求11所述的机构,其中所述光电检测器包括在所述光轴周围间隔开的多个光敏元件。
13.根据权利要求11所述的机构,其中被引导的所述辐射束具有在所述光轴周围为暗的角强度分布,使得经反射的辐射不被引导回被引导的所述辐射束的输出。
14.根据权利要求9所述的机构,其中所述反射表面是弯曲的。
15.根据权利要求1或2所述的机构,其中所述永磁体包括SmCo材料。
16.根据权利要求9所述的机构,所述机构为延长的形式,所述机构还包括悬架部分,其中所述悬架部分、所述永磁体、所述静止部分和所述位置传感器首尾相连地被堆叠。
17.根据权利要求1或2所述的机构,其中所述移动部分由弹性支撑件支撑,所述弹性支撑件被布置为提供响应于第一部分和第二部分之间的相对位移而增加并且反抗起动力的偏置力,所述机构还包括在所述第一部分和所述第二部分之间的磁耦合,所述磁耦合被布置为提供反偏置力,所述反偏置力部分地反抗所述偏置力以减小用于影响给定的位移的所述起动力。
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