[发明专利]介质处理装置和介质交易装置在审
申请号: | 201380064441.1 | 申请日: | 2013-11-18 |
公开(公告)号: | CN104854629A | 公开(公告)日: | 2015-08-19 |
发明(设计)人: | 浅村政光 | 申请(专利权)人: | 冲电气工业株式会社 |
主分类号: | G07D9/00 | 分类号: | G07D9/00;B65H29/51 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 处理 装置 交易 | ||
1.一种介质处理装置,其中,
所述介质处理装置具备:
滚筒,其构成为圆筒形且在圆周侧面卷绕纸页状的介质;
框架,其从外部遮蔽所述滚筒的周围并形成有能够将所述介质取出至外部的敞开孔;
引导件,其在所述滚筒的圆周侧面附近引导所述介质;
支承部,其将所述引导件支持为能够在利用所述引导件覆盖所述敞开孔的封闭状态、和使所述敞开孔敞开的敞开状态之间转变;
操作旋钮,其设置在所述框架的一个侧面上,并将从外部施加的旋转操作传递至所述滚筒;以及
旋钮罩,其在所述引导件处于封闭状态时成为覆盖所述操作旋钮的覆盖状态,另一方面,在所述引导件不处于所述封闭状态时成为使所述操作旋钮露出的露出状态。
2.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中,
所述介质处理装置还具有旋钮罩转动轴,所述旋钮罩转动轴将所述旋钮罩支承为能够相对于所述框架转动。
3.根据权利要求2所述的介质处理装置,其中,
所述介质处理装置还具备施力部,所述施力部对所述旋钮罩朝使所述操作旋钮露出的方向施力。
4.根据权利要求3所述的介质处理装置,其中,
所述框架在所述滚筒的上侧形成有所述敞开孔,
所述引导件在处于所述封闭状态时利用自重使所述旋钮罩转变为所述覆盖状态。
5.根据权利要求2所述的介质处理装置,其中,
所述旋钮罩转动轴使所述旋钮罩与所述框架的设置有所述操作旋钮的一个侧面大致平行地转动。
6.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中,
所述引导件在处于所述封闭状态时与所述旋钮罩联动,在处于所述敞开状态时解除与所述旋钮罩的联动。
7.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中,
所述引导件在所述封闭状态下与卷绕于所述滚筒的圆周侧面的所述介质的量相应地使该引导件相对于所述框架的位置移位,
在所述引导件在所述封闭状态下与卷绕于所述滚筒的圆周侧面的所述介质的量相应地移位的情况下,所述旋钮罩也维持覆盖所述操作旋钮的覆盖状态。
8.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中,
所述旋钮罩安装于所述引导件。
9.一种介质交易装置,其中,
所述介质交易装置具备:
输送部,其输送纸页状的介质;
滚筒,其构成为圆筒形且在圆周侧面卷绕介质;
框架,其从外部遮蔽所述滚筒的周围并形成有能够将所述介质取出至外部的敞开孔;
引导件,其在所述输送部与所述滚筒的圆周侧面附近之间引导所述介质;
支承部,其将所述引导件支持为能够在利用所述引导件覆盖所述敞开孔的封闭状态、和使所述敞开孔敞开的敞开状态之间转变;
操作旋钮,其设置在所述框架的一个侧面上,并将从外部施加的旋转操作传递至所述滚筒;以及
旋钮罩,其在所述引导件处于封闭状态时成为覆盖所述操作旋钮的覆盖状态,另一方面,在所述引导件不处于所述封闭状态时成为使所述操作旋钮露出的露出状态。
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