[发明专利]上层膜形成用组合物以及使用其的抗蚀图案形成方法有效
| 申请号： | 201380065161.2 | 申请日： | 2013-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN104919370B | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 王晓伟;铃木理人;冈安哲雄;G·鲍洛斯基 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（卢森堡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘淼 |
| 地址： | 卢森堡(L-1*** | 国省代码： | 卢森堡;LU |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 上层 形成 组合 以及 使用 图案 方法 | ||
1.一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的富勒烯衍生物以及溶剂，
其中，该亲水性基团为从式F2和F5中选出的酚羟基，
或者，该亲水性基团从由磺酸基、硝基、氰基以及聚环氧烷基组成的组中选出，
该上层膜形成用组合物还包含从聚羟基苯乙烯、聚乙烯醇和聚丙烯酸中选出的聚合物。
2.根据权利要求1所述的上层膜形成用组合物，其中，前述富勒烯衍生物的主链骨架的碳原子数为60、70、76、78、82、84、90、94或96。
3.根据权利要求1或2所述的上层膜形成用组合物，其中，以上层膜形成用组合物的总重量为基准，前述富勒烯衍生物的含量为0.01～10重量％。
4.根据权利要求1或2所述的上层膜形成用组合物，其中，前述聚合物具有深紫外线吸收基。
5.根据权利要求1或2所述的上层膜形成用组合物，其中，以上层膜形成用组合物的总重量为基准，前述聚合物的含量为0.01～10重量％。
6.一种图案形成方法，其特征在于包含如下工序：
在基板上涂布抗蚀组合物而形成抗蚀膜，在前述抗蚀膜上涂布权利要求1～4中任一项所述的上层膜形成用组合物，通过加热而固化，使用超紫外线进行曝光，用碱水溶液进行显影。
7.根据权利要求6所述的图案形成方法，其中，前述超紫外线的波长为5～20nm。
8.根据权利要求6或7所述的图案形成方法，其中，形成的上表面抗反射膜的膜厚为1～100nm。
9.根据权利要求6或7所述的图案形成方法，其中，前述加热的温度为25～150℃。
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