[发明专利]超高速均匀纳米粒子的生成喷嘴、生成装置及生成方法

权利要求书

1.一种超高速均匀纳米粒子的生成喷嘴，其作为将由二氧化碳形成的粒子生成气体通过而生成超高速均匀纳米粒子的喷嘴，特征在于，包括：

膨胀部，其为截面积向喷嘴的出口侧逐渐变宽的形态；

孔口，其置于所述膨胀部的入口并使所述粒子生成气体急速膨胀；

所述膨胀部依次包括第一膨胀部及第二膨胀部而形成，

所述第二膨胀部的平均膨胀角比所述第一膨胀部的膨胀角大。

2.根据权利要求1所述的超高速均匀纳米粒子的生成喷嘴，其特征在于，

所述第二膨胀部的与所述第一膨胀部的连接部分形成为具有与第一膨胀部出口侧的膨胀角相同的膨胀角，并且形成为越向所述第二膨胀部的中心部膨胀角逐渐增加，并且膨胀角从所述中心部至出口侧逐渐减小。

3.根据权利要求1所述的超高速均匀纳米粒子的生成喷嘴，其特征在于，

所述第一膨胀部具有0°以上且30°以下的膨胀角，

所述第二膨胀部具有比所述第一膨胀部的膨胀角增加10°～45°的平均膨胀角。

4.根据权利要求3所述的超高速均匀纳米粒子的生成喷嘴，其特征在于，还包括：

第三膨胀部，其连接于第二膨胀部的出口；

所述第三膨胀部具有比所述第二膨胀部的平均膨胀角增加10°～45°并最大不足90°的膨胀角。

5.根据权利要求1所述的超高速均匀纳米粒子的生成喷嘴，其特征在于，还包括：

压缩部，其置于所述喷嘴的入口侧。

6.根据权利要求1所述的超高速均匀纳米粒子的生成喷嘴，其特征在于，

以喷嘴轴为基准，所述膨胀部的出口为倾斜地截断的形状，以便所述喷嘴接近于对象物。

7.根据权利要求1所述的超高速均匀纳米粒子的生成喷嘴，其特征在于，还包括：

隔热部，其包围所述喷嘴的外周面。

8.一种超高速均匀纳米粒子生成装置，其作为将由二氧化碳形成的粒子生成气体通过而生成超高速均匀纳米粒子，特征在于，所述喷嘴，包括：

膨胀部，其越向所述喷嘴的出口侧截面积及膨胀角逐渐增加；

所述膨胀部依次包括膨胀角互不相同的第一膨胀部及第二膨胀部，

所述第二膨胀部的平均膨胀角比所述第一膨胀部的膨胀角大。

9.根据权利要求8所述的超高速均匀纳米粒子生成装置，其特征在于，还包括：

孔口，其位于所述喷嘴的喷嘴喉并且调节所述喷嘴喉的开闭截面积。

10.根据权利要求8所述的超高速均匀纳米粒子生成装置，其特征在于，还包括：

压力调节器，其调节所述粒子生成气体的供给压力；

所述粒子生成气体以5bar以上且60bar以下的压力供给至所述喷嘴。

11.根据权利要求8所述的超高速均匀纳米粒子生成装置，其特征在于，

所述粒子生成气体与载气混合而被供给，

所述超高速均匀纳米粒子生成装置还包括混合室，其调节所述粒子生成气体和载气的混合比例。

12.根据权利要求11所述的超高速均匀纳米粒子生成装置，其特征在于，

所述载气由氮或者氦形成，

所述混合比例特征在于，所述载气的体积比例为10％以上且99％以下。

13.根据权利要求12所述的超高速均匀纳米粒子生成装置，其特征在于，还包括：

压力调节器，其调节将所述粒子生成气体与载气混合的混合气体的供给压力；

所述粒子生成气体以5bar以上且120bar以下的压力供给至所述喷嘴。

14.根据权利要求13所述的超高速均匀纳米粒子生成装置，其特征在于，

所述第二膨胀部的与所述第一膨胀部的连接部分形成为具有与第一膨胀部出口侧的膨胀角相同的膨胀角，并且形成为越向所述第二膨胀部的中心部膨胀角逐渐增加，并且膨胀角从所述中心部至出口侧逐渐减小。

15.根据权利要求13所述的超高速均匀纳米粒子生成装置，其特征在于，

所述第一膨胀部具有0°以上且30°以下的膨胀角，

所述第二膨胀部具有比所述第一膨胀部的膨胀角增加10°～45°的平均膨胀角。