[发明专利]散气装置、散气方法及水处理装置在审
申请号: | 201380066414.8 | 申请日: | 2013-10-17 |
公开(公告)号: | CN104870377A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | 古野真介;笹川学;吉良文博 | 申请(专利权)人: | 三菱丽阳株式会社 |
主分类号: | C02F3/20 | 分类号: | C02F3/20;B01D65/02;C02F1/44;C02F3/12 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 方法 水处理 | ||
1.一种散气装置,包括:接受从气体供给装置供给的气体的筒状的主配管;以及与所述主配管连接的支配管,该散气装置的特征在于,
所述支配管的一端与所述主配管连接,另一端开口,且在所述支配管上形成有一个或多个散气孔,
所述支配管构成为,在将所述主配管水平地配设的状态下,在纵向上方侧形成有所述多个散气孔中的至少一部分,且所述另一端的开口朝向纵向下方侧。
2.如权利要求1所述的散气装置,其特征在于,所述支配管还具有弯曲部。
3.如权利要求1或2所述的散气装置,其特征在于,在将所述主配管水平地配设的状态下,所述支配管被配设成水平的状态。
4.如权利要求1~3中任一项所述的散气装置,其特征在于,具有多根所述支配管,所述支配管全部被配置成相对于其它支配管平行。
5.如权利要求1~4中任一项所述的散气装置,其特征在于,在将所述主配管水平地配设的状态下从铅垂方向俯视所述散气装置时,所述支配管被配置成相对于所述主配管的中心轴对称。
6.如权利要求1~5中任一项所述的散气装置,其特征在于,还具有纵向管部,
在将所述主配管水平地配设的状态下,所述纵向管部设置为,从所述主配管的下部向下方延伸,且与所述主配管内连通,并且所述支配管通过所述纵向管部连接而连通于主配管。
7.如权利要求1~6中任一项所述的散气装置,其特征在于,还具有固定部件,
所述支配管通过所述固定部件可装拆地与所述主配管连接。
8.如权利要求7所述的散气装置,其特征在于,还具有使所述支配管的一端彼此连通的连通部件,
通过以管接头机构或螺纹旋入机构作为固定机构将所述固定部件安装于所述纵向管部,
对于一个所述固定部件,通过所述连通部件而连接有二根所述支配管。
9.如权利要求1~8中任一项所述的散气装置,其特征在于,形成于所述支配管的散气孔的数量为,每一支配管设有2个以上、15个以下的散气孔。
10.如权利要求1~9中任一项所述的散气装置,其特征在于,所述支配管的长度是200mm以上、500mm以下。
11.如权利要求1~10中任一项所述的散气装置,其特征在于,从所述支配管的上端的切线至所述另一端的开口的长度Δh,相对于所述支配管的内径D为2倍以上、5倍以下。
12.如权利要求1~11中任一项所述的散气装置,其特征在于,在所述支配管中,设于最接近所述另一端的开口的位置的散气孔,设在膜元件的末端部的正下方,或者,当将所述散气孔之间的间隔设为a时,设于最接近所述另一端的开口的位置的散气孔,设在所述支配管的、从所述膜元件的末端部的正下方位置离开±a/2的范围内,所述膜元件设置于所述散气装置的上部。
13.如权利要求1~12中任一项所述的散气装置,其特征在于,所述支配管的另一端的开口,设在散气孔的位置的外侧,该散气孔是设在最接近所述另一端的开口的位置的散气孔。
14.如权利要求1~13中任一项所述的散气装置,其特征在于,所述支配管的内径D是10mm以上、20mm以下,
所述散气孔的直径d是4.5mm以上、7.0mm以下。
15.一种散气方法,其特征在于,在储存被处理水且配置有膜组件单元的处理槽内,配设如权利要求1~14中任一项所述的散气装置,反复进行如下工序:通过所述主配管而在规定时间内连续将气体供给到所述支配管的散气工序;然后,在一定时间内停止供给气体的停止工序。
16.如权利要求15所述的散气方法,其特征在于,在所述停止工序后,还具有使被处理水流入所述支配管内的工序。
17.一种水处理装置,其特征在于,具有:水槽;配置在所述水槽内的膜组件单元;以及配置在所述膜组件单元的下方的如权利要求1~16中任一项所述的散气装置。
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