[发明专利]玻璃陶瓷在审
申请号: | 201380066994.0 | 申请日: | 2013-12-18 |
公开(公告)号: | CN104870389A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | M.德格拉齐亚;C.马莱 | 申请(专利权)人: | 尤罗科拉公司 |
主分类号: | C03C10/00 | 分类号: | C03C10/00;C03C17/36 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黄念;林森 |
地址: | 法国蒂*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 陶瓷 | ||
1.玻璃陶瓷片材,在它的至少一个面的至少一部分上被提供有薄层涂层,该薄层涂层包含至少一个由基于金属铌Nb的金属或者基于氧化铌NbOx的氧化物构成的薄功能层,其中x最多为0.5,所述或者每个薄功能层用至少两个由电介质材料制成的薄层围绕,该薄功能层的物理厚度或者必要时所有薄功能层的累积物理厚度在8-15nm的范围内。
2.根据权利要求1的玻璃陶瓷片材,其中所述或者每个薄功能层由金属铌Nb构成。
3.根据前述权利要求任一项的玻璃陶瓷片材,其中该涂层包含仅仅一个薄功能层。
4.根据前述权利要求任一项的玻璃陶瓷片材,其中所述电介质材料,其是相同或者不同的,选自硅、铝、钛、锆、锡、锌的氧化物、氮化物或者氧氮化物或者它们的混合物或者固溶体的任一种。
5.根据前一权利要求的玻璃陶瓷片材,其中该电介质材料,其是相同或者不同的,基于氮化硅、氧化钛、氧化钛锆、氧化锌锡、氮化钛硅、氮化硅锆或者氧化硅。
6.根据前述权利要求任一项的玻璃陶瓷片材,其中每个电介质材料层的物理厚度为10至100nm,特别地20至80nm。
7.根据前述权利要求任一项的玻璃陶瓷片材,其中薄阻隔体层位于所述或者每个薄功能层上方并与其接触和/或在其下方并与其接触。
8.根据前一权利要求的玻璃陶瓷片材,其中所述或者每个薄阻隔体层由钛制成。
9.根据权利要求7-8任一项的玻璃陶瓷片材,其中所述或者每个薄阻隔体层的物理厚度最多为3纳米,特别地2纳米。
10.根据前述权利要求任一项的玻璃陶瓷片材,其具有最多为15%,特别地13%的光反射因子,和至少为40%,特别地50%的光透射因子,在标准EN 410:1998的意义上。
11.根据前述权利要求任一项的玻璃陶瓷片材,其具有对于3微米波长至少50%的反射。
12.根据前述权利要求任一项的玻璃陶瓷片材,其中该玻璃陶瓷具有铝硅酸锂类型的组成并且包含β-石英结构的晶体。
13.根据前一权利要求的玻璃陶瓷片材,其化学组成在如下定义的以重量百分比计的范围内包含以下组分:
SiO2 52-75%,特别地65-70%
Al2O3 18-27%,特别地18-19.8%
Li2O 2.5-5.5%,特别地2.5-3.8%
K2O 0-3%,特别地0-<1%
Na2O 0-3%,特别地0-<1%
ZnO 0-3.5%,特别地1.2-2.8%
MgO 0-3%,特别地0.55-1.5%
CaO 0-2.5%,特别地0-0.5%
BaO 0-3.5%,特别地0-1.4%
SrO 0-2%,特别地0-1.4%
TiO2 1.2-5.5%,特别地1.8-3.2%
ZrO2 0-3%,特别地1.0-2.5%
P2O5 0-8%,特别地0-0.5%。
14.烤箱、火炉或者壁炉的门或者窗,其包含至少一个根据前述权利要求任一项的玻璃陶瓷片材。
15.包含至少一个根据前一权利要求的门或者窗的烤箱、火炉或者壁炉。
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