[发明专利]具有反向流动的均质化工艺和设备

权利要求书

1.一种均质设备(1)，所述均质设备包括：

-用于接收加压的流体的入口(2)，所述加压的流体还可能含有固体颗粒；

-所述流体的均质化发生的区域；

-在相对于入口压力更低的压力下的、用于所述流体的出口(10)，

其特征在于，在所述均质化区域中，所述流体从具有较大直径的区域进入具有较小直径的区域，

所述均质化区域包含由第一级(所述第一级装备有第一偏转塞(6))和适于产生背压的第二级(所述第二级装备有第二偏转塞(12))共用的相互作用元件(9)，

当所述偏转塞(6和12)与它们共用的相互作用元件一起操作时，在所述第一级内产生所述剪切速率的增加。

2.根据权利要求1所述的阀，其特征在于，在所述第二偏转塞(12)中，在所述出口区域(10)的附近有校准孔，所述孔用于形成背压的相同功能。

3.根据权利要求1所述的阀，其特征在于，其中存在朝着出口(10)的截面变窄(所述相互作用元件(9)和所述偏转塞(6)之间的通道)且随后变宽(相互作用元件(9)的成形形状)。

4.根据权利要求1所述的阀，其特征在于，所述孔提供在所述相互作用元件(9)中，并且在端部所述孔扩张(变宽)。

5.根据权利要求1所述的阀，其特征在于，所述第一偏转塞和所述第二偏转塞(6和12)的直径不同。

6.根据权利要求1所述的阀，其特征在于，所述偏转塞可独立调节(即独立于流速)，从而改变处理的强度，但基本不改变阀的几何形状。

7.根据权利要求5所述的阀，其特征在于，由于所述第一和所述第二偏转塞(6、12)具有不同的直径，所述相互作用元件(9)是可逆的(即双面的)，并产生不重叠的磨损斑痕。

8.根据权利要求1所述的阀，其特征在于，所述第一偏转塞(6)和所述相互作用元件(9)的面对面表面能够为：

-两者均朝向中间区域对称地会聚(表面彼此接近)；

-相对于所述相互作用元件(9)的“平行”，仅所述偏转塞(6)的表面会聚；或反之亦然，相对于所述偏转塞(6)的“平行”，仅相互作用元件(9)的表面会聚；

-两者均发散分离(朝向中心区域，表面远离)；

-相对于所述相互作用元件(9)的“平行”，仅所述偏转塞(6)的表面发散分离；或反之亦然，相对于所述偏转塞(6)的“平行”，仅相互作用元件(9)的表面发散分离。

9.一种用于均质化流体的工艺，所述流体可能还包含固定颗粒，其特征在于，在均质区域的第一级中，流体从具有较大直径(或容积)的区域通向具有较小直径(或容积)的区域，

所述均匀区域包括由所述第一级(所述第一级装备有第一偏转塞(6))和适于产生背压的第二级(所述第二级装备有第二偏转塞(12))共用的相互作用元件(9)，

当所述偏转塞(6和12)与它们共用的相互作用元件一起操作时，在所述第一级内产生所述剪切速率的增加。

10.如权利要求9所述的工艺，其特征在于，所述第二级中的流体从具有较小直径(容积)的区域朝向具有较大直径(容积)的区域运动。

11.如权利要求9所述的工艺，其特征在于，在所述流体从入口向出口行进的过程中，在第一级内的剪切速率增加，尽管它能够增加，所述第二级内剪切速率保持恒定或减小。

12.如权利要求9所述的工艺，其特征在于，通过所述协作元件(9)和所述偏转塞(12)的可调节的相互作用，实现背压的步骤。

13.如权利要求9所述的工艺，其特征在于，通过不可调节的校准孔实现背压的步骤。

14.如权利要求9所述的工艺，其特征在于，通过串联设置根据权利要求1所述的两个第一级实现背压的步骤。

15.如权利要求9所述的工艺，其特征在于，通过弹性系统、弹簧(20)或气压缸(21)控制的均质和微粉装置的使用使能自动地更改产生在所述协作元件(9)与所述偏转塞(6和12)之间的间隙的高度，由此动态地且连续地适合于流速波动。