[发明专利]保护性组合物

说明书

一种用于光电设备的保护性组合物，所述保护性组合物包含有机金属吸气剂，所述有机金属吸气剂能够与硫和/或硒反应以形成含有金属和硫和/或硒的晶体。所述保护性组合物可以形成层或光学部件。有利地，所述保护性组合物有效地除去硫化物气体并且导致稳定的晶体的形成，并且不只是减少所述气体的渗透速率。所生成的晶体通常具有高透明度和低光吸收。

技术领域

本发明涉及用于在光电设备中防护有害物质的材料和部件以及包 含这种材料和部件的发光装置。

背景技术

在许多情况下，腐蚀性气体(例如H₂S)的存在或形成是一个问题。 例如，在使用银反射器的照明装置中，银与周围气体中存在的硫化物气 体的反应导致银的变黑并且因此损坏了反射器的功能。

在一些基于荧光体转换光源的发光装置中，硫化物气体可以从含硫 荧光材料，通常是基于硫化物材料(例如硫化钙(CaS)、硫化锶(SrS)、 硫化锌(ZnS)或其组合例如(Ca,Sr)S)的荧光体释放出来。基于硫化物 的荧光体对水特别敏感，并且可以反应形成氢氧化钙或氢氧化锶和硫化 物气体。除了银反射器变黑之外，H₂S的释放也是一个问题，因为H₂S是一种有毒的、易燃的并且恶臭的气体。而且，基于Ca或Sr的硒化物 或硫化物的荧光体与水反应还会释放出少量的高毒性的硒化物气体。

期望不仅阻止腐蚀性和/或毒性气体到达银层，而且阻止该气体从 设备逃脱。

为了阻止银反射器变黑，已经提出了保护层。然而，这种保护层通 常具有差的抗擦性，并且由于银通常用作电导体并且必须连接导线，直 接将绝缘保护层应用于银层可能也不理想。而且，制备这种层而不含针 孔(气体可以通过所述针孔泄露)几乎不可能。

US 2009/0121180建议了包含负载二氧化硅的硅氧烷组合物的保护 性组合物，可用于包封光电设备。所述组合物包含硅氧烷接枝的二氧化 硅颗粒并得到高度透明并且具有低的腐蚀性气体渗透速率的固化硅氧 烷组合物。然而，低渗透速率并不解决问题，而是将其延迟。

因此，在防止或减少对照明装置中的毒性和/或腐蚀性气体的有害作用 方面，本领域存在改善的需要。

发明内容

本发明的目的是克服该问题并提供适用于光电设备的捕获硫的手段。

根据本发明的第一方面，通过用于光电设备的保护性组合物达到了这个 和其它的目的，所述保护性组合物包含有机金属吸气剂(organometallic getter)，所述有机金属吸气剂能够与硫和/或硒反应形成含有金属与硫和/或 硒的晶体，通常是纳米晶体。晶体根据下式形成：

H₂Z+MX→MZ+XH₂

其中H₂Z代表硫化物气体或硒化物气体，M代表有机金属吸气剂的金 属部分，选自铜、铁、镉、铅和锌，X代表有机金属吸气剂的有机部分，并 且MZ代表形成的晶体。

通常，术语“吸气剂”表示反应活性物质，所述反应活性物质通过吸收和 /或化学结合与目标物质相互作用以固定所述目标物质。用于本发明的吸气剂 主要通过化学结合所述目标物质起作用。在本发明中，所述目标物质通常是 硫/硫化物或硒/硒化物。所述吸气剂和所述目标物质之间的化学相互作用通 常可以是离子结合。

通过与吸气剂反应除去硫化物气体是有利的，因为所述反应导致稳定晶 体的形成，并且不仅仅是减少所述气体的渗透速率。所生成的晶体通常具有 高透明度和低光吸收。在本发明的实施方式中，包含所述吸气剂的所述组合 物(与硫化物气体反应之前)还可以具有低光吸收，这使得包含所述吸气剂 的所述组合物特别适用于光电设备。此外，使用常规技术容易制备所述组合 物。