[发明专利]用于生产具有改进的防污特性的光学物品的方法

权利要求书

1.用于制造光学物品的方法，该方法包括以下步骤：

-提供基底，该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带-OH官能团，

-在真空室中在导致将那些材料沉积到该基底的表面上的条件下，依次地将该携带-OH官能团的基底的一个面暴露于至少两种被称为M1和M2的不同的材料，M1具有高于M2的重均分子量，优选地按M1然后M2的顺序，并且其中：

-M1是取代的硅烷，包含：

ο至少一个结合到硅原子上的官能团X1，其中该Si-X1基团能够与该基底的-OH基团形成共价键，和/或与M2形成共价键，以及

ο至少一个含氟基团，

-M2是具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷，包含：

ο至少一个结合到硅原子上的官能团X2，其中该Si-X2基团能够与该基底的-OH基团形成共价键，和/或与M1形成共价键，以及

ο至少一个疏水和/或疏油基团，或至少一个亲水基团，

其中M1的重均分子量与M2的重均分子量之间的差值是高于或等于600g/mol、优选高于或等于900g/mol。

2.根据权利要求1所述的方法，其中该基底是一种包含减反射光学层的透明材料。

3.根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中M1和/或M2的沉积通过蒸发在减压下进行。

4.根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中将M1和M2共价地接枝在该基底的表面上。

5.根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中X1和X2独立地选自一个可水解基团和-OH基团。

6.根据权利要求5所述的方法，其中X1和X2独立地选自一个卤素原子、-NH-烷基、二烷氨基、烷氧基、酰氧基、异氰酸酯基、-OH基团以及-NH₂基团。

7.根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中该含氟基团产生自二价的氟烷基、氟代链烯基、以及聚(氟烷基醚)基团中的至少一种的组装。

8.根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中M1的平均分子量是高于或等于2000g/mol，并且优选地在从3000至6000g/mol的范围内。