[发明专利]用于光瞳成像散射测量的变迹法

权利要求书

1.一种用于执行光学计量的系统，其包括：

载台，其经配置以支撑样本；

至少一个照明源，其经配置以提供沿照明路径的照明；

变迹器，其安置于所述照明路径的光瞳平面内，所述变迹器经配置以使沿所述照明路径导引的照明变迹；

照明扫描仪，其沿所述照明路径安置，所述照明扫描仪经配置以重新导引照明并且用所述变迹照明的至少部分来扫描所述样本的表面，其中所述照明扫描仪是光学元件；

照明场光阑，其沿所述照明路径安置，所述照明场光阑经配置以阻止沿所述照明路径导引的照明的部分扫描所述样本的所述表面；

至少一个检测器，其经配置以检测沿收集路径从所述样本的所述表面散射、反射或辐射的照明的部分；

收集场光阑，其沿所述收集路径安置，所述收集场光阑经配置以阻止沿所述收集路径导引的照明的部分被检测；及

计算系统，其通信地耦合到所述至少一个检测器，所述计算系统经配置以基于照明的所述所检测部分而确定所述样本的至少一个空间属性。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明扫描仪安置于所述照明路径的所述光瞳平面内。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明扫描仪沿所述照明路径安置于所述变迹器与所述照明场光阑之间。

4.根据权利要求3所述的系统，其中所述变迹器安置于所述至少一个照明源与所述照明扫描仪之间。

5.根据权利要求3所述的系统，其中所述照明场光阑安置于所述至少一个照明源与所述照明扫描仪之间。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明场光阑沿所述照明路径安置于所述变迹器与所述照明扫描仪之间。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述变迹器沿所述照明路径安置于所述照明扫描仪与所述照明场光阑之间。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明场光阑包括变迹场光阑。

9.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明扫描仪经进一步配置以将沿所述收集路径从所述样本的所述表面散射、反射或辐射的照明导引到所述至少一个检测器。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个照明源包括相干照明源。

11.根据权利要求1所述的系统，其中根据以下方程式而选择所述变迹器的变迹曲线：

其中

F(p(k))是成本函数，

p(k)是光瞳变迹器曲线，

x₀界定所述样本的目标范围，

k₀界定所述光瞳平面的目标范围，

λ₁界定场平面中的尾部减小及光瞳函数均匀度的相对权重，且

NA界定光瞳孔径。

12.根据权利要求1所述的系统，其中所述收集场光阑包括经配置以使沿所述收集路径导引的照明变迹的变迹场光阑。

13.根据权利要求12所述的系统，其中根据以下方程式而选择所述变迹收集场光阑的变迹曲线：

其中

F(p(x))是成本函数，

p(x)是场光阑变迹器曲线，

x₀界定所述样本的目标范围，

k₀界定所述光瞳平面的目标范围，

λ₂界定场平面中的尾部减小及收集场光阑函数均匀度的相对权重，且

L界定场光阑大小。

14.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括：

光谱控制器，其沿所述照明路径安置，所述光谱控制器经配置以通过控制沿所述照明路径导引的照明的光谱而影响变迹。