[发明专利]使含烃地层与氟化离子聚合物接触的方法

权利要求书

1.一种方法，所述方法包括使含烃地层与包含溶剂和氟化聚合物的处理组合物接触，其中所述氟化聚合物包含：

由下式表示的第一二价单元：

其中

Rf表示具有1至8个碳原子的氟烷基基团；

每个R¹独立地为氢或甲基；

Q为键或-SO₂-N(R)-，其中R为具有1至4个碳原子的烷基；并且

m为1至11的整数，

第二二价单元，所述第二二价单元包含聚(亚烷基氧)基团，其中所述第二二价单元以基于所述氟化聚合物的总重量计至少30重量％的量存在；和

第三二价单元，所述第三二价单元包含侧链离子基团，

其中满足以下条件中的至少一者：

所述溶剂包含基于所述溶剂的总重量计不超过10重量％的甲醇和不超过25重量％的水；或

所述溶剂溶解或置换所述含烃地层中的盐水。

2.根据权利要求1所述的方法，其中Q为-SO₂N(R)-，并且R为甲基或乙基。

3.根据权利要求1所述的方法，其中Rf表示具有至多4个碳原子的氟烷基基团。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述氟化聚合物还包含至少一个由下式表示的二价单元：

其中

每个R⁵独立地为具有1至30个碳原子的烷基；并且

每个R⁶独立地为氢或甲基。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二二价单元中的至少一个由下式表示：

其中

每个R₂独立地为氢或甲基；

每个R₃独立地为具有至多4个碳原子的烷基或氢；

EO表示-CH₂CH₂O-；

每个R⁴O独立地选自–CH(CH₃)CH₂O–、–CH₂CH₂CH₂O–、–CH₂CH(CH₃)O–、-CH₂CH₂CH₂CH₂O-、–CH(CH₂CH₃)CH₂O–、–CH₂CH(CH₂CH₃)O–和–CH₂C(CH₃)₂O–；

每个p独立地为0至150的值；并且

每个q独立地为0至150的值，其中p+q为至少5。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二二价单元中的至少一个由下式表示：

其中

每个R₂独立地为氢或甲基；

EO表示-CH₂CH₂O–；

每个R⁴O独立地选自–CH(CH₃)CH₂O–、–CH₂CH₂CH₂O–、–CH₂CH(CH₃)O–、-CH₂CH₂CH₂CH₂O-、–CH(CH₂CH₃)CH₂O–、–CH₂CH(CH₂CH₃)O–和–CH₂C(CH₃)₂O–；

每个p独立地为0至150的值；并且

每个q独立地为0至150的值，其中p+q为至少150。