[发明专利]粒子射线照射装置及具备该粒子射线照射装置的粒子射线治疗装置

权利要求书

1.一种粒子射线照射装置，包括：

扫描电磁铁，该扫描电磁铁用于使粒子射线对照射对象进行扫描；

扫描信息存储部，该扫描信息存储部中存储有扫描位置信息和扫描顺序信息，所述扫描位置信息与粒子射线对所述照射对象进行扫描时的多个扫描位置有关，所述扫描顺序信息是对所述多个扫描位置进行扫描的顺序；以及

扫描电磁铁控制部，该扫描电磁铁控制部根据存储于该扫描信息存储部中的所述扫描位置信息和所述扫描顺序信息，来控制所述扫描电磁铁，所述粒子射线照射装置的特征在于，

存储于所述扫描信息存储部中的所述扫描位置信息包含顺序相邻的所述扫描位置信息为同一扫描位置信息的部分，

每当所述扫描电磁铁控制部判断不随被照射的扫描位置而变化的固定曝光剂量时，所述扫描电磁铁控制部获取存储于所述扫描信息存储部中的顺序为下一个的扫描位置信息，并根据该顺序为下一个的扫描位置信息来控制所述扫描电磁铁。

2.如权利要求1所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

连续地存储有所述同一扫描位置信息时的、该同一扫描位置信息所连续的个数与该同一扫描位置信息所对应的扫描位置处的粒子射线的计划照射剂量成正比。

3.如权利要求2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

包括粒子射线监视器，每当规定量的所述粒子射线通过时，该粒子射线监视器产生监视脉冲，每当产生所述监视脉冲时，所述扫描电磁铁控制部获取存储于所述扫描信息存储部中的顺序为下一个的扫描位置信息，并根据该顺序为下一个的扫描位置信息来控制所述扫描电磁铁。

4.如权利要求1至3的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述扫描位置信息是与所述扫描电磁铁的所述扫描位置相对应的励磁电流值。

5.如权利要求1至3的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述扫描位置信息是与所述扫描电磁铁所产生的所述扫描位置相对应的磁场强度。

6.一种粒子射线治疗装置，

该粒子射线治疗装置具有如权利要求2或3所述的粒子射线照射装置，其特征在于，包括：

治疗计划装置，该治疗计划装置用于决定所述多个扫描位置、对所述多个扫描位置进行扫描的顺序、以及针对每个所述扫描位置的所述粒子射线的计划照射剂量。