[发明专利]光刻设备、衬底支撑系统、器件制造方法以及控制程序

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

被驱动的物体，所述被驱动的物体具有柔顺动态特性；

多个致动器，所述多个致动器被配置为作用在被驱动的物体上，其中所述多个致动器在致动器自由度上是超定的；

控制系统，所述控制系统包括变换矩阵，所述变换矩阵被配置为响应于设定点产生用于所述多个致动器中的每个致动器的控制器输出信号，

其中所述变换矩阵被配置为使得所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体在至少一个自由度上的柔顺动态特性。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中所述多个致动器在两个或更多个致动器自由度上是超定的，并且所述变换矩阵被配置为使得所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体的在数量上等于超定的致动器自由度的数量的自由度上的柔顺动态特性。

3.如权利要求1或2所述的光刻设备，其中所述多个致动器包括多于六个的致动器，所述多于六个的致动器被配置和布置为在六个自由度上定位被驱动的物体。

4.如权利要求1、2或3所述的光刻设备，其中被驱动的物体具有第一共振模态，所述第一共振模态为在被驱动的物体的所有共振模态中具有最低频率的共振模态，并且所述变换矩阵被配置为使得在低于第一共振模态的频率的一半频率的情况下所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体在至少一个自由度上的柔顺动态特性。

5.如权利要求1、2、3或4所述的光刻设备，其中所述变换矩阵被配置为使得在低于预定频率的频率的情况下所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体在至少一个自由度上的柔顺动态特性。

6.如权利要求1-5中任一项所述的光刻设备，其中所述变换矩阵GB满足下面的条件式：

S·Σi=7Nviyviu0ki·GB=0.]]>  等式6

其中S为表示其中柔顺行为不会被激发的自由度的选择矩阵，v_i^y表示由测量系统测量的由于第i模态被驱动的物体的位移，v_i^u0表示在物理致动器处的由于第i模态被驱动的物体的位移。

7.如权利要求1-6中任一项所述的光刻设备，其中所述变换矩阵进一步被配置为执行被驱动的物体的对角化的刚体行为。

8.如权利要求1-7中任一项所述的光刻设备，其中所述变换矩阵进一步被配置为降低被驱动的物体的内部变形。

9.如权利要求1-8中任一项所述的光刻设备，其中被驱动的物体从如下构成的组中选择：衬底台、衬底保持装置、用于图案形成装置的支撑结构、掩模台、反射器、掩模版遮蔽叶片。

10.如权利要求1-9中任一项所述的光刻设备，其中所述控制系统响应于一系列设定点产生一系列控制器输出信号。

11.一种衬底支撑系统，包括：

衬底台，所述衬底台具有柔顺动态特性；

多个致动器，所述多个致动器被配置为作用在衬底台上，其中所述多个致动器在致动器自由度上是超定的；

控制系统，所述控制系统包括变换矩阵，所述变换矩阵被配置为响应于设定点产生用于所述多个致动器中的每个致动器的控制器输出信号，

其中所述变换矩阵被配置为使得所述控制器输出信号不会激发衬底台的在至少一个自由度上的柔顺动态特性。