[发明专利]X射线照射源及X射线管有效
申请号: | 201380071750.1 | 申请日: | 2013-11-05 |
公开(公告)号: | CN105009249B | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | 仲村龙弥;小杉典正;奥村直树;佐藤义孝;松本晃;丸岛吉久;中村和仁 | 申请(专利权)人: | 双叶电子工业株式会社;浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01J35/16 | 分类号: | H01J35/16;H01J35/06;H05G1/04 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 照射 | ||
1.一种X射线照射源,其特征在于,
包含:
X射线管,其具有:阴极,其被施加负的高电压;靶,其通过来自所述阴极的电子的入射而产生X射线;及筐体,其收纳所述阴极与所述靶,并且具有使自所述靶产生的所述X射线向外部射出的输出窗;及
电源部,其产生施加于所述阴极的所述负的高电压,
所述筐体具有:窗用壁部,其设置有所述输出窗;及主体部,其与所述窗用壁部接合而形成收纳所述阴极及所述靶的收纳空间,
所述主体部具有相对壁部,该相对壁部与所述窗用壁部相对地配置且由包含碱的玻璃形成,
在所述相对壁部的外表面侧,配置有被施加与自所述电源部供给至所述阴极的所述负的高电压大致相同等的负的高电压的电场控制电极。
2.如权利要求1所述的X射线照射源,其特征在于,
所述阴极沿着所述相对壁部的内表面延伸,
所述电场控制电极以与所述阴极相对的方式沿着所述相对壁部的外表面延伸。
3.如权利要求1或2所述的X射线照射源,其特征在于,
所述阴极的电子放出部从所述相对壁部分离,
在所述电子放出部与所述相对壁部之间,被施加与自所述电源部供给至所述阴极的所述负的高电压大致相同等的负的高电压的背面电极以与所述阴极相对的方式配置,
所述电场控制电极以与所述背面电极相对的方式沿着所述相对壁部的外表面延伸。
4.如权利要求1至3中任一项所述的X射线照射源,其特征在于,
所述电场控制电极以覆盖所述相对壁部的外表面整体的方式配置。
5.如权利要求1至4中任一项所述的X射线照射源,其特征在于,
所述电场控制电极紧贴于所述相对壁部的外表面。
6.如权利要求1至5中任一项所述的X射线照射源,其特征在于,
还包含载置有所述电源部的电路基板,
所述筐体经由配置于所述电场控制电极与所述电路基板之间的绝缘性构件而载置于所述电路基板。
7.如权利要求1至5中的任一项所述的X射线照射源,其特征在于,
还包含载置有所述电源部的电路基板,
所述电场控制电极为形成于所述电路基板上的图案电极,
所述筐体经由所述图案电极而载置于所述电路基板。
8.如权利要求1至5中的任一项所述的X射线照射源,其特征在于,
还包含载置有所述电源部的电路基板,
在所述电路基板,形成有能够嵌合所述筐体的贯通孔,
所述筐体通过以覆盖所述相对壁部及所述电场控制电极的方式设置的绝缘性包覆部而在嵌入到所述贯通孔的状态下保持于所述电路基板。
9.一种X射线管,其特征在于,
包含:
阴极,其被施加负的高电压;
靶,其通过来自所述阴极的电子的入射而产生X射线;及
筐体,其收纳所述阴极与所述靶并且包含使自所述靶产生的所述X射线向外部射出的输出窗,
所述筐体具有:窗用壁部,其设置有所述输出窗;及主体部,其与所述窗用壁部接合而形成收纳所述阴极及所述靶的收纳空间,
所述主体部具有相对壁部,该相对壁部与所述窗用壁部相对地配置且由包含碱的玻璃形成,
在所述相对壁部的外表面,设置有被施加与供给至所述阴极的所述电压大致相同等的负的高电压的电场控制电极。
10.如权利要求9所述的X射线管,其特征在于,
所述阴极沿着所述相对壁部的内表面延伸,
所述电场控制电极以与所述阴极相对的方式沿着所述相对壁部的外表面延伸。
11.如权利要求9或10所述的X射线管,其特征在于,
所述阴极的电子放出部从所述相对壁部分离,
在所述电子放出部与所述相对壁部之间,被施加与供给至所述阴极的所述负的高电压大致相同等的负的高电压的背面电极以与所述阴极相对的方式配置,
所述电场控制电极以与所述背面电极相对的方式沿着所述相对壁部的外表面延伸。
12.如权利要求9至11中任一项所述的X射线管,其特征在于,
所述电场控制电极以覆盖所述相对壁部的外表面整体的方式配置。
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