[发明专利]共聚焦测量装置在审
申请号: | 201380073008.4 | 申请日: | 2013-11-14 |
公开(公告)号: | CN104995480A | 公开(公告)日: | 2015-10-21 |
发明(设计)人: | 荒川正行;松井优贵;早川雅之;太田润 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01C3/06 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 金相允;向勇 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚焦 测量 装置 | ||
1.一种共聚焦测量装置,其特征在于,具有:
光源,出射多个波长的光;
多个共聚焦光学部,使得从所述光源出射的光产生轴向色差,使产生该轴向色差的光照射至测量对象物,并且使聚焦于所述测量对象物的光通过;
一个分光部,使光按照各个波长分离;
导光部,使通过所述多个共聚焦光学部的光入射至所述分光部;
受光部,沿着所述分光部进行分光的分光方向来一维排列受光元件,所述受光元件用于接收经所述分光部分离的光;以及
控制部,根据所述受光部所接收的光,来求出分别与所述多个共聚焦光学部中的每个共聚焦光学部对应的峰波长。
2.如权利要求1所述的共聚焦测量装置,其特征在于,
所述多个共聚焦光学部,具有使互不相同的波段的光透过或者被遮挡的光学构件,
所述共聚焦光学部,使透过所述光学构件或者被所述光学构件遮挡的光照射至所述测量对象物,
所述控制部,分别对所述受光部中的每个对应区域求出峰波长,所述对应区域是指,与透过各所述光学构件或者被各所述光学构件遮挡的波段的光相对应的区域。
3.如权利要求2所述的共聚焦测量装置,其特征在于,
所述光学构件,设于光从所述光源入射至所述共聚焦光学部的位置。
4.如权利要求1所述的共聚焦测量装置,其特征在于,
所述光源,分别设于所述多个共聚焦光学部中的每个共聚焦光学部,各所述光源出射互不相同的波段的光,
所述控制部,分别对所述受光部中的每个对应区域求出峰波长,所述对应区域是指,与各所述光源出射的光的波段相对应的区域。
5.如权利要求1所述的共聚焦测量装置,其特征在于,
所述光源,分别设于所述多个共聚焦光学部中的每个共聚焦光学部,
所述控制部,以使所述光源依次发光的方式,控制各所述光源发光的时机,并配合各所述光源发光的时机,来求出与该发光的所述光源相对应的所述峰波长。
6.如权利要求1所述的共聚焦测量装置,其特征在于,
所述光源,分别设于所述多个共聚焦光学部中的每个共聚焦光学部,
所述多个共聚焦光学部,分别具有使互不相同的波段的光透过或者被遮挡的光学构件,
所述共聚焦光学部,使透过所述光学构件或者被所述光学构件遮挡的光照射至所述测量对象物,
所述控制部,以使所述光源依次发光的方式,来控制各所述光源发光的时机,并配合各所述光源发光的时机,分别对所述受光部中的每个对应区域,求出与该发光的所述光源相对应的所述峰波长,所述对应区域是指,与透过各所述光学构件或者被各所述光学构件遮挡的波段的光相对应的区域。
7.如权利要求5所述的共聚焦测量装置,其特征在于,
所述受光部的所述受光元件呈如下形状:所述受光元件在排列方向上的长度,小于在与所述排列方向垂直的方向上的长度,所述排列方向是指所述受光元件沿着一维排列的方向。
8.如权利要求6所述的共聚焦测量装置,其特征在于,
所述受光部的所述受光元件呈如下形状:所述受光元件在排列方向上的长度,小于在与所述排列方向垂直的方向上的长度,所述排列方向是指所述受光元件沿着一维排列的方向。
9.如权利要求1所述的共聚焦测量装置,其特征在于,
所述共聚焦光学部具有:
衍射透镜,使从所述光源出射的光产生轴向色差,
物镜,配置于比所述衍射透镜更靠所述测量对象物侧,使产生所述轴向色差的光会聚于所述测量对象物,
光阑,使由所述物镜会聚的光中的聚焦于所述测量对象物的光通过。
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