[发明专利]转矩测量装置在审
申请号: | 201380073035.1 | 申请日: | 2013-12-10 |
公开(公告)号: | CN105051511A | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | 弗兰克·本克特;延斯·海姆;马蒂亚斯·施佩伯;于尔根·吉尔;克里斯蒂安·努依丝;斯特凡·格吕克 | 申请(专利权)人: | 舍弗勒技术股份两合公司 |
主分类号: | G01L3/10 | 分类号: | G01L3/10 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 车文;张建涛 |
地址: | 德国黑措*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转矩 测量 装置 | ||
1.一种转矩测量装置(4),其包括:
-设置为驱动轴的内轴(2);
-与所述内轴(2)连接的且同轴地包围所述内轴的设置为从动轴的空心轴(3),
其中,所述空心轴(3)具有包括应变条(5)的用于转矩测量的直接涂覆部。
2.根据权利要求1所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述空心轴(3)具有金属基材、施加在所述金属基材上的绝缘层(11)、以及施加在所述绝缘层上的且形成所述应变条(5)的测量层(12)。
3.根据权利要求2所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述绝缘层(11)包括氧化物。
4.根据权利要求2所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述绝缘层(11)包括碳化物。
5.根据权利要求2所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述绝缘层(11)包括无定形碳。
6.根据权利要求2所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述绝缘层(11)包括聚合物。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述测量层(12)的厚度为最少0.05μm且最高1.0μm。
8.根据权利要求7所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述测量层(12)由NiCr合金形成。
9.根据权利要求2至8中任一项所述的转矩测量装置(4),其特征在于,保护层(13)是施布到所述测量层(12)上的。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述直接涂覆部的总厚度为最大20μm。
11.根据权利要求1至9中任一项所述的转矩测量装置(4),其特征在于布置在所述空心轴(3)上的信号传递组件(6)。
12.根据权利要求11所述的转矩测量装置(4),其特征在于,滑环设置为信号传递组件。
13.根据权利要求11所述的转矩测量装置(4),其特征在于,所述信号传递组件(6)构造用于进行无线的信号传递。
14.根据权利要求11至13中任一项所述的转矩测量装置(4),其特征在于布置在所述空心轴(6)上的信号评估组件。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的转矩测量装置(4),其特征在于布置在所述内轴(2)上的转速测量组件(10)。
16.一种中轴,其包括根据权利要求1至15中任一项所述的转矩测量装置(4)。
17.一种用于制造转矩测量装置(4)的方法,其具有以下特征:
-将提供用于转矩测量的测量层(12)且形成应变条(5)的涂覆部施加在空心轴(3)的基材上作为直接涂覆部,其中,在将所述涂覆部施加到所述空心轴(3)上之后才进行对所述应变条(5)的结构化,
-将所述空心轴(3)抗相对转动地与同轴地布置在所述空心轴之内的内轴(2)连接起来,其中,所述内轴(2)形成驱动轴,而所述空心轴(3)形成从动轴。
18.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,对所述应变条(5)的结构化通过激光加工来实现。
19.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,对所述应变条(5)的结构化以光刻的方式来实现。
20.根据权利要求17至19中任一项所述的方法,其特征在于,为了制造所述直接涂覆部,首先在所述空心轴(3)的基材上生成绝缘层(11)并紧接着在所述绝缘层(11)上生成测量层(12)。
21.根据权利要求20所述的方法,其特征在于,所述绝缘层(11)和所述测量层(12)中的至少一个层利用PVD法或PACVD法来生成。
22.根据权利要求17至21中任一项所述的方法,其特征在于,将有机或无机的保护层(13)施布到所述测量层(12)上。
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