[发明专利]离心滚筒研磨装置以及滚筒研磨方法有效
申请号: | 201380073395.1 | 申请日: | 2013-10-31 |
公开(公告)号: | CN104994994A | 公开(公告)日: | 2015-10-21 |
发明(设计)人: | 前田和良;涩谷纪仁 | 申请(专利权)人: | 新东工业株式会社 |
主分类号: | B24B31/12 | 分类号: | B24B31/12;B24B31/02;B24B31/023;B24B31/033 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;舒艳君 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离心 滚筒 研磨 装置 以及 方法 | ||
1.一种离心滚筒研磨装置,使收纳有包含工件以及研磨介质在内的堆体的滚筒槽自转公转而研磨工件,
其特征在于,具备:
圆盘状的转台,其能够以公转轴为中心旋转;
多个滚筒槽,它们经由各自转轴设置于所述转台,并能够以各自转轴为中心分别旋转;
旋转机构,其使所述转台以及所述滚筒槽旋转;以及
倾斜机构,其将所述转台的公转轴相对于水平面倾斜配置,并将多个所述自转轴分别相对于水平面倾斜配置。
2.根据权利要求1所述的离心滚筒研磨装置,其特征在于,
所述倾斜机构具有:
基台,其将所述转台固定成能够以公转轴为中心旋转;
倾斜架台,其将所述基台固定为能够倾动;以及
转动机构,其与所述基台连结,并使所述基台自由地倾斜。
3.根据权利要求2所述的离心滚筒研磨装置,其特征在于,
所述转动机构是通过活塞的伸缩使所述基台自由地倾斜的缸。
4.根据权利要求1或2所述的离心滚筒研磨装置,其特征在于,
所述倾斜机构将多个所述自转轴分别配置为相对于水平面以30°~70°的范围倾斜。
5.根据权利要求1或2所述的离心滚筒研磨装置,其特征在于,
具备多个滚筒槽外壳,它们将所述多个滚筒槽分别能够装卸地固定,
在所述多个滚筒槽外壳的一端分别设置有多个所述自转轴,
多个所述自转轴分别在所述转台固定成能够旋转。
6.根据权利要求1或2所述的离心滚筒研磨装置,其特征在于,
还具备倾斜角度调整机构,其自由地调整使多个所述自转轴相对于水平面倾斜的角度。
7.根据权利要求1或2所述的离心滚筒研磨装置,其特征在于,
还具备旋转速度调整机构,其控制所述多个滚筒槽的自转公转的旋转速度。
8.根据权利要求1或2所述的离心滚筒研磨装置,其特征在于,
还具备预备自转机构,其仅进行所述多个滚筒槽的自转。
9.一种滚筒研磨方法,利用权利要求2或6所述的离心滚筒研磨装置,其特征在于,
具有:
使所述多个滚筒槽自转公转的工序;以及
通过所述多个滚筒槽的自转公转来研磨工件的工序,
使所述多个滚筒槽自转公转的工序具有连续地变更由多个所述自转轴每一个与水平面所成的角度的工序。
10.一种滚筒研磨方法,利用权利要求7所述的离心滚筒研磨装置,
其特征在于,
具备:
使所述多个滚筒槽自转公转的工序;以及
通过所述多个滚筒槽的自转公转来研磨工件的工序,
使所述多个滚筒槽自转公转的工序具备:
第一加速工序,通过所述旋转速度调整机构调整所述多个滚筒槽的自转公转的速度以使施加于所述堆体的离心力在第一时间到达第一离心力,其中,所述第一离心力设定为所述堆体因自重即将无法与所述多个滚筒槽的内壁接触的离心力;以及
第二加速工序,在所述第一加速工序之后,通过所述旋转速度调整机构调整所述多个滚筒槽的自转公转的速度以使施加于所述堆体的离心力在第二时间到达第二离心力,其中,所述第二离心力设定为能够通过离心力与所述多个滚筒槽的内壁接触的离心力。
11.根据权利要求10所述的滚筒研磨方法,其特征在于,
所述第一离心力为0.3G~1.0G,所述第二离心力为1.5G~6.0G。
12.一种滚筒研磨方法,利用权利要求8所述的离心滚筒研磨装置,
所述滚筒研磨方法的特征在于,具备:
通过所述预备自转机构的工作使所述多个滚筒槽自转而将工件的角部以及边缘部的角进行圆角加工的预备研磨工序;以及
在所述预备研磨工序之后,使所述多个滚筒槽自转公转而进行该工件的研磨的工序。
13.根据权利要求12所述的滚筒研磨方法,其特征在于,
所述工件是硬脆材料。
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