[发明专利]水再生系统及脱盐处理装置、以及水再生方法

权利要求书

1.一种水再生系统，包括脱盐处理装置，所述脱盐处理装置包括：

脱盐部，其包括彼此相反极性地带电的一对对置的电极、位于该电极之间且能够供含有离子的被处理水流通的电极间流路、以及设置于各个所述电极的所述电极间流路侧的离子交换膜，所述脱盐部进行使所述离子吸附于所述电极的脱盐处理和使所述离子从所述电极脱离的再生处理；

处理水排出路，其设置于所述脱盐部的下游侧，使在所述脱盐处理时去除了所述离子的处理水从所述脱盐部排出；

浓缩水排出路，其设置于所述脱盐部的下游侧，使含有在所述再生处理时从所述电极放出的所述离子的浓缩水从所述脱盐部排出；

供给部，其向所述脱盐部供给防水垢剂、以及成为水垢成分的所述离子即水垢成分离子的浓度比所述浓缩水低的低离子浓度水中的至少一方；以及

控制部，其根据所述脱盐部内的所述水垢成分的浓度，获取所述供给部向所述脱盐部供给所述防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给开始时间、和所述供给部停止供给所述防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给停止时间，并在所述供给开始时间与所述供给停止时间之间的期间使所述供给部实施防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给，

所述供给部设置于所述脱盐部的上游，

所述控制部根据所述水垢成分的浓度达到第一阈值的时间和所述被处理水在所述脱盐部中滞留的滞留时间获取所述供给开始时间，并且根据所述水垢成分的浓度达到第二阈值的时间和所述滞留时间获取所述供给停止时间，所述第二阈值为所述第一阈值的0.5倍以上且1倍以下的值。

2.根据权利要求1所述的水再生系统，其中，

所述脱盐处理装置还具备循环部，所述循环部使从所述脱盐部排出的所述浓缩水以及所述处理水中的至少一方向所述供给部循环，

所述控制部将所述水垢成分离子的浓度低的所述浓缩水以及所述处理水中的至少一方作为所述低离子浓度水，并使其通过所述循环部向所述供给部输送，并从所述供给部向所述脱盐部供给。

3.根据权利要求1所述的水再生系统，其中，

所述控制部根据所述脱盐部内的所述水垢成分的浓度，控制所述低离子浓度水的流量。

4.根据权利要求1所述的水再生系统，其中，

测量所述水垢成分离子的浓度的测量部设置于所述脱盐部的下游，或与所述电极间流路连接，

所述控制部根据由所述测量部测量出的所述水垢成分离子的浓度获取所述水垢成分的浓度，并根据所述水垢成分的浓度获取所述供给开始时间和所述供给停止时间。

5.一种脱盐处理装置，包括：

脱盐部，其包括彼此相反极性地带电的一对对置的电极、位于该电极之间且能够供含有离子的被处理水流通的电极间流路、以及设置于各个所述电极的所述电极间流路侧的离子交换膜，所述脱盐部进行使所述离子吸附于所述电极的脱盐处理和使所述离子从所述电极脱离的再生处理；

处理水排出路，其设置于所述脱盐部的下游侧，使在所述脱盐处理时去除了所述离子的处理水从所述脱盐部排出；

浓缩水排出路，其设置于所述脱盐部的下游侧，使含有在所述再生处理时从所述电极放出的所述离子的浓缩水从所述脱盐部排出；

供给部，其向所述脱盐部供给防水垢剂、以及成为水垢成分的所述离子即水垢成分离子的浓度比所述浓缩水低的低离子浓度水中的至少一方；以及

控制部，其根据所述脱盐部内的所述水垢成分的浓度，获取所述供给部向所述脱盐部供给所述防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给开始时间、和所述供给部停止供给所述防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给停止时间，并在所述供给开始时间与所述供给停止时间之间的期间使所述供给部实施防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给，

所述供给部设置于所述脱盐部的上游，

所述控制部根据所述水垢成分的浓度达到第一阈值的时间和所述被处理水在所述脱盐部中滞留的滞留时间获取所述供给开始时间，并且根据所述水垢成分的浓度达到第二阈值的时间和所述滞留时间获取所述供给停止时间，所述第二阈值为所述第一阈值的0.5倍以上且1倍以下的值。