[发明专利]涂布光电导基材有效

专利信息
申请号: 201380076232.9 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN105308214B 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: S·加纳帕蒂亚潘;K·瑙卡;H·T·吴 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: C23C30/00 分类号: C23C30/00;G03G5/07;G03G15/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 周李军;万雪松
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光电导 基材 电荷迁移材料 电荷产生层 电荷迁移层 聚合物 附着
【权利要求书】:

1.涂布光电导基材,其包括:

光电导基材,所述光电导基材具有电荷产生层和电荷迁移层;和

附着于光电导基材的涂层,所述涂层包含可交联聚合物,所述可交联聚合物包括选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基单体、异氰酸酯、多元醇、环氧化物、醚、它们的组合和它们的混合物的聚合单体,其中外涂层不含电荷迁移材料,其中所述涂层的厚度为1-200nm。

2.权利要求1的涂布光电导基材,其中所述聚合物包含聚合单体,所述聚合单体由双酚A二甲基丙烯酸酯、乙氧化双酚A二甲基丙烯酸酯、季戊四醇、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、双酚A二缩水甘油醚、丁二醇二缩水甘油醚、双酚A乙氧基化物、溴化双酚A二缩水甘油醚、二异氰酸酯,甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1,8-二异氰酸根合辛烷、1,8-辛二醇、乙烯基苯酚、乙烯基丁缩醛、苯乙烯、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、乙烯基吡啶、丁二醇、它们的组合或它们的混合物制备。

3.权利要求1的涂布光电导基材,其中所述可交联聚合物以范围为50重量%-99.9重量%的量存在于所述外涂层中。

4.权利要求1的涂布光电导基材,其中所述涂布不含电荷迁移材料,所述电荷迁移材料包括:三-对甲苯胺(PTA)、N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-二苯基联苯胺(TBD)、四氯苯醌、四溴苯醌、四氰基乙烯、四氰基醌二甲烷、2,4,7-三硝基-9-芴酮、2,4,5,7-四硝基-9-芴酮、2,4,5,7-四硝基呫吨酮、2,4,8-三硝基噻吨酮、2,6,8-三硝基-4H-吲哚并[1,2-b]噻吩-4-酮、1,3,7-三硝基-二苯并噻吩-5,5-二氧化物、联苯醌、噁唑、噁二唑、咪唑、单芳基胺、二芳基胺、三芳基胺、茋、α-苯基茋、联苯胺、二芳基甲烷、三芳基甲烷、9-苯乙烯基蒽、吡唑啉、二乙烯基苯、腙、茚、丁二烯、芘、双茋、烯胺和芳族叔胺。

5.权利要求1的涂布光电导基材,其中在100000个印刷图像之后,所述涂层提供小于200伏特的V

6.权利要求1的涂布光电导基材,其中所述光电导基材为液体电子照相印刷机中的光成像板。

7.权利要求1的涂布光电导基材,其中所述涂层的厚度为5-150nm。

8.权利要求1的涂布光电导基材,其中所述涂层的厚度为10-80nm。

9.权利要求1的涂布光电导基材,其中所述涂层的厚度为10-40nm。

10.制造光电导基材的方法,所述方法包括将涂层施用于光电导基材,其中所述涂层包含可交联聚合物,所述可交联聚合物包括选自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基单体、异氰酸酯、多元醇、环氧化物、醚、它们的组合和它们的混合物的聚合单体且其中外涂层不含电荷迁移材料,其中所述涂层的厚度为1-200nm。

11.权利要求10的方法,其中所述光电导基材为液体电子照相印刷机中的光成像板和其中在100000个印刷图像之后,所述涂层向所述光电导基材提供小于200伏特的V

12.权利要求10的方法,其中所述聚合物包含聚合单体,所述聚合单体由双酚A二甲基丙烯酸酯、乙氧化双酚A二甲基丙烯酸酯、季戊四醇、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、双酚A二缩水甘油醚、丁二醇二缩水甘油醚、双酚A乙氧基化物、溴化双酚A二缩水甘油醚、二异氰酸酯,甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1,8-二异氰酸根合辛烷、1,8-辛二醇、乙烯基苯酚、乙烯基丁缩醛、苯乙烯、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、乙烯基吡啶、丁二醇、它们的组合或它们的混合物制备。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普发展公司;有限责任合伙企业,未经惠普发展公司;有限责任合伙企业许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380076232.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top