[发明专利]用于质谱法的具有伸长捕集区域的微型带电粒子阱

权利要求书

1.一种用于捕集带电粒子的微型电极设备，所述设备沿纵向方向包括：

第一端盖电极；

具有孔口的中心电极；以及

第二端盖电极；

其中，所述孔口沿所述纵向方向延伸穿过所述中心电极，且所述中心电极在垂直于所述纵向方向的侧向平面中包围所述孔口，以限定用于捕集带电粒子的横向腔体，

其中，所述中心电极中的所述孔口在所述侧向平面中伸长；以及

其中由所述孔口限定的所述横向腔体在所述纵向方向上具有小于1mm的垂直尺寸2z₀；

其中，所述孔口的较大尺寸与较小尺寸的比值大于1.0，

其中，所述较大尺寸是在所述侧向平面中横越所述孔口的最长直线的距离，并且所述较小尺寸是在垂直于与所述较大尺寸对应的所述直线的侧向平面中横越所述孔口的最长直线的距离。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述较小尺寸的比值大于1.5。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述较小尺寸的比值大于2.0。

4.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述较小尺寸的比值大于3.0。

5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述较小尺寸的比值大于5.0。

6.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述较小尺寸的比值大于10.0。

7.根据权利要求1所述的设备，其中，所述孔口的较大尺寸与平均较小尺寸的比值大于1.0，

其中，所述较大尺寸是在所述侧向平面中横越所述孔口的最长直线的距离，并且所述平均较小尺寸是沿在垂直于与所述较大尺寸对应的线的所述侧向平面中在沿与所述较大尺寸对应的所述线的每个位置处横越所述孔口的各直线的距离的积分平均值。

8.根据权利要求7所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述平均较小尺寸的比值大于1.5。

9.根据权利要求7所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述平均较小尺寸的比值大于2.0。

10.根据权利要求7所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述平均较小尺寸的比值大于3.0。

11.根据权利要求7所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述平均较小尺寸的比值大于4.0。

12.根据权利要求7所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述平均较小尺寸的比值大于5.0。

13.根据权利要求7所述的设备，其中，所述较大尺寸与所述平均较小尺寸的比值大于10.0。

14.根据权利要求1所述的设备，其中，所述孔口包括具有第一端和第二端的伸长通道，其中，所述伸长通道的通道长度与通道宽度的比值大于1.0，

其中，所述通道长度是在所述侧向平面中横越所述通道从所述第一端到所述第二端的最短曲线的距离，并且所述通道宽度是在垂直于与所述通道长度对应的所述曲线的侧向平面中横越所述通道的最长直线的距离。

15.根据权利要求14所述的设备，其中，所述通道长度与所述通道宽度的比值大于1.5。

16.根据权利要求14所述的设备，其中，所述通道长度与所述通道宽度的比值大于2.0。

17.根据权利要求14所述的设备，其中，所述通道长度与所述通道宽度的比值大于3.0。

18.根据权利要求14所述的设备，其中，所述通道长度与所述通道宽度的比值大于4.0。