[发明专利]显示装置用基板以及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及能够实现例如赋予触摸感测功能等的显示装置用基板以及具备显示装置用基板的显示装置。此外，本发明例如能够提供具备适于显示装置的低反射且透射光的遮光性优良的低反射电极的显示装置用基板。

本申请基于2013年6月19日申请的特愿2013－128310号而主张优先权，在此援引其内容。

背景技术

近年来，在液晶显示装置或有机EL显示装置中，为了实现明亮的显示及低耗电化，要求高的开口率。在这些显示装置中，为了对像素进行区分来提高显示的对比度，通常使用黑矩阵。

(黑矩阵的遮光性)

出于确保显示的对比度的目的而以包围像素的形态配设的黑矩阵为了得到遮光性，通常在玻璃等透明基板上，用使碳等色材分散到树脂中而成的黑色树脂形成为1μm以上的厚的膜厚。特别是，在位于将多个像素以矩阵状配设的显示部的周围4边的边框部，换句话说，在边框状的黑矩阵，透射测定的光学浓度被要求5以上或者6以上的高的遮光性。背光灯单元的光容易从边框部泄漏，边框部被要求比形成于显示部的黑矩阵更高的光学浓度。

除了这样的高的遮光性之外，黑矩阵还被要求用于实现高画质化及外观性提高的低反射率。然而，在将碳等色材分散到树脂中而成的黑色树脂中，随着增加碳含有量而反射率变高。

因此，兼顾高的遮光性(高的光学浓度)和低反射率、以及薄的膜厚的黑矩阵是很困难的。

(黑矩阵的细线化)

在移动电话等小型移动通信设备用的显示装置中，伴随着200ppi以上、进而300ppi以上的高精密化，而要求黑矩阵的细线化。通过使黑矩阵高精密化，像素宽度成为30μm以下而很窄，因此，因黑矩阵的膜厚引起的彩色滤光片的平坦性恶化逐渐显露出来。300ppi以上的高精密的显示装置的黑矩阵需要为4μm以下的细线。

另外，例如，为了提高黑矩阵的遮光性而通过进行2次光刻的工序来形成4μm以下细线的黑矩阵、即形成2层的黑矩阵，这从对准的观点来看是很难的。2次工序来进行黑矩阵的形成由于对准的误差而容易导致线宽的变化及显示不均的产生。

(显示装置中的触摸感测功能)

然而，在液晶显示装置或有机EL显示装置中，作为直接输入的手段，有在这些显示装置上粘贴静电容方式的触摸面板的手段、在显示装置之中设置与触摸感测对应的元件的手段等。后者称作In-Cell，该In-Cell中，有使用静电容方式或光传感器的方式等。

在显示装置本身能够进行手指等指示器的输入的In-Cell方式的触摸感测技术中，多数应用静电容方式。在该静电容方式中，需要有专利文献1～4所公开的用于检测静电容的2组的多个电极群。

先行技术文献

专利文献

专利文献1:日本国专利第2653014号公报

专利文献2:日本国特开2010－160745号公报

专利文献3:国际公开2013/018495号公报

专利文献4:日本国特开2012－98687号公报

发明内容

发明要解决的课题

在此，专利文献1至4中存在以下所述的问题。

专利文献1中，如段落0018、0019所公开的那样，公开了能够利用Al(铝)、Cr(铬)等金属的静电容耦合来输入空间坐标的2组电极群。

然而，专利文献1的技术存在很多缺点。段落0019中记载了2组遮光性的电极实现作为黑矩阵的功能。记载了具有遮光性的导电体为Al、Cr等金属，但是这些金属具有高的反射率，因此，在明亮的室内或有太阳光的户外，反射光很明显，大大降低了显示品质。但是，在专利文献1中，关于使用了为了得到显示装置的对比度而在多数显示装置中应用的黑色色材的黑色层的图案及彩色滤光片与所述的2组电极，并没有公开在显示装置的厚度方向上的位置关系，针对包含透射·反射的彩色显示也没有充分地进行记载。

而且，Al(铝)没有耐碱性，例如很难与红色像素、绿色像素、蓝色像素的光刻工序进行匹配。更具体地说，使用着色感光性树脂来对红色像素等的着色图案进行碱性显影的通常的彩色滤光片工序中，Al由于会溶解，因此很难向彩色滤光片工序进行应用。关于Cr，为了进行图案形成而采用了湿式蚀刻工序的情况下，担心Cr离子会产生环境污染，在采用了干式蚀刻工序的情况下，使用的卤素气体有危险性等。