[发明专利]Cu芯球有效

专利信息
申请号: 201380077610.5 申请日: 2013-06-19
公开(公告)号: CN105392580B 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 川崎浩由;桥本知彦;池田笃史;六本木贵弘;相马大辅;佐藤勇;川又勇司 申请(专利权)人: 千住金属工业株式会社
主分类号: B22F1/00 分类号: B22F1/00;B22F1/02;B23K35/14;B23K35/26;C22C13/00;H01L21/60;H05K3/34
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 代理人: 刘新宇,李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: cu 芯球
【权利要求书】:

1.一种Cu芯球,其特征在于,其具备Cu球和覆盖该Cu球的表面的软钎料镀覆膜,

所述软钎料镀覆膜为Sn软钎料镀覆膜或由以Sn作为主要成分的无铅软钎料合金形成的软钎料镀覆膜,U的含量为5ppb以下,Th的含量为5ppb以下,

该Cu球的纯度为99.9%以上且99.995%以下,Pb和/或Bi的含量的总量为1ppm以上,球形度为0.95以上,并且,

Cu芯球的α射线量为0.0200cph/cm2以下。

2.根据权利要求1所述的Cu芯球,其α射线量为0.0020cph/cm2以下。

3.根据权利要求1所述的Cu芯球,其α射线量为0.0010cph/cm2以下。

4.根据权利要求1所述的Cu芯球,其中,所述Cu球中的Pb和Bi的含量总计为1ppm以上。

5.根据权利要求2所述的Cu芯球,其中,所述Cu球中的Pb和Bi的含量总计为1ppm以上。

6.根据权利要求3所述的Cu芯球,其中,所述Cu球中的Pb和Bi的含量总计为1ppm以上。

7.根据权利要求1所述的Cu芯球,其直径为1~1000μm。

8.根据权利要求2所述的Cu芯球,其直径为1~1000μm。

9.根据权利要求3所述的Cu芯球,其直径为1~1000μm。

10.根据权利要求4所述的Cu芯球,其直径为1~1000μm。

11.根据权利要求5所述的Cu芯球,其直径为1~1000μm。

12.根据权利要求6所述的Cu芯球,其直径为1~1000μm。

13.根据权利要求1所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

14.根据权利要求2所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

15.根据权利要求3所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

16.根据权利要求4所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

17.根据权利要求5所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

18.根据权利要求6所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

19.根据权利要求7所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

20.根据权利要求8所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

21.根据权利要求9所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

22.根据权利要求10所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

23.根据权利要求11所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

24.根据权利要求12所述的Cu芯球,其中,所述Cu球在利用所述软钎料镀覆膜进行覆盖之前预先利用由选自Ni和Co中的1种元素以上形成的镀层进行了覆盖。

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