[发明专利]吡唑基吡咯啉酮及其作为除草剂的用途在审
| 申请号： | 201380078772.0 | 申请日： | 2013-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN105472986A | 公开（公告）日： | 2016-04-06 |
| 发明（设计）人： | J·E·波赫米尔;M·费德特;A·朗斯塔夫;J·A·莫里斯;T·R·戴森;M·B·霍特森;A·J·道灵;W·G·怀廷哈姆;A·J·达伦肯;P·J·德福莱恩;R·J·G·蒙迪埃;蜂巢主慈;A·J·汤普森;V·G·格帕尔萨慕斯拉姆 | 申请（专利权）人： | 先正达参股股份有限公司;先正达有限公司 |
| 主分类号： | A01N43/56 | 分类号： | A01N43/56;A01N43/90;C07D403/04;C07D409/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张敏 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 吡唑 吡咯 及其 作为 除草剂 用途 | ||
1.一种具有化学式(I)的除草化合物
其中
X是选自S和O；
Ra是选自氢、C1-C6烷基以及C1-C6卤代烷基；
Rb是选自氢，甲酰基，羟基，卤素，硝基，氰基，C1-C6烷基，C1-C6氰基烷基，C3-C6环烷基， C3-C6氰基环烷基，C1-C6卤代烷基，C1-C6烷硫基，C1-C6烷氧基，C1-C6烷氧基C1-C6烷基，C1-C6烷 硫基C1-C6烷基，C1-C6氰基烷氧基，C1-C6卤代烷氧基，C1-C6烷氧基C1-C6烷氧基，C2-C6烯基， C2-C6炔基，C2-C6氰基烯基，C2-C6氰基炔基，C2-C6烯氧基，C2-C6炔氧基，C2-C6卤代烯基，C2-C6卤代炔基，C2-C6卤代烯氧基，C2-C6卤代炔氧基，C1-C6烷氧基C2-C6烯基，C1-C6烷氧基C2-C6炔 基，C1-C6烷基亚磺酰基，C1-C6烷基磺酰基，C1-C6卤代烷硫基，C1-C6卤代烷基亚磺酰基，C1-C6卤代烷基磺酰基，C1-C6烷基磺酰基氧基，C1-C6烷基羰基，C1-C6卤代烷基羰基，C2-C6烯基羰 基，C2-C6炔基羰基，C2-C6卤代烯基羰基，C2-C6卤代炔基羰基，三C1-C6烷基甲硅烷基C2-C6炔 基，C1-C6烷基酰胺基，基团R5R6N-，基团R5C(O)N(R6)-，基团R5S(O2)N(R6)-，基团R5R6NSO2-，任 选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基以及 C1-C3卤代烷氧基的基团取代的C6-C10芳基基团，任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、 氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基以及C1-C3卤代烷氧基的基团取代的C6-C10芳氧 基基团，任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代 烷基以及C1-C3卤代烷氧基的基团取代的C6-C10苄基基团，任选地被从1至3个独立地选自卤 素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基以及C1-C3卤代烷氧基的基团取代的 C6-C10苄氧基基团，任选地被从1至3个独立地选自C1-C4烷基的基团取代的C3-C6杂环基基团 以及任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1-C6烷基的基团取代的C3-C6环烷基基团；并且 其中当Rb是C2-C6炔基、C2-C6氰基炔基、C2-C6卤代炔基或C1-C6烷氧基C2-C6炔基时，该炔基基 团不直接附接至吡唑环；
Rc是选自氢、卤素、氰基、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；
或Ra和Rb连同它们附接的氮和碳原子一起形成3-7元饱和或部分不饱和环，该环任选地 包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素、C1-C6烷 基和C1-C6卤代烷基的基团取代；
或Rb和Rc连同它们附接的碳原子一起形成3-7元饱和或部分不饱和环，该环任选地包含 从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素、C1-C6烷基和 C1-C6卤代烷基的基团取代；
R1是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C3烷氧基，并且R2是卤素或C1-C3烷氧基，附带条件是 R1和R2不都是C1-C3烷氧基；
R3选自卤素、羟基或以下基团中的任一个
R5和R6独立地选自氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基，或R5和R6连同它 们附接的碳原子一起形成3-6元饱和或部分不饱和环，该环任选地包括从1至3个独立地选 自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1-C6烷基的基团取代；
R7和R8独立地选自氢，C1-C6烷基，C1-C6卤代烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，可以是单环或双 环的包括从1至4个独立地选自N、O和S的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基以及C1-C3烷氧基的基团取代的C5-C10杂芳基基团，任选地被1至3个独 立地选自卤素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基以及C1-C3卤代烷氧基的 基团取代的C6-C10芳基基团，或R7和R8连同它们附接的原子一起形成3-6元饱和或部分不饱 和环，该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地 选自卤素或C1-C6烷基的基团取代；
R9选自C1-C6烷基或任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧 基、C1-C3卤代烷基、以及C1-C3卤代烷氧基的基团取代的苄基；
或其N-氧化物或盐形式。
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