[发明专利]具有形成于其上的存储器的打印头有效

专利信息
申请号: 201380080582.2 申请日: 2013-10-31
公开(公告)号: CN105705337B 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 杨建华;葛宁;李智勇 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: B41J2/045 分类号: B41J2/045;B41J2/14
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 张立达,王英
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 形成 存储器 打印头
【说明书】:

背景技术

某些打印机具有在诸如纸的基板上分配墨汁的打印头。

附图说明

图1A是根据本公开内容的教导实现的示例性打印装置的示意图。

图1B是根据本公开内容的教导实现的示例性打印装置的示意图。

图2是可以用于实现图1A和/或图1B的示例性打印装置的示例性集成电路。

图3-图15示出了在生产图2的示例性集成电路的过程期间制造的示例性结构。

图16是表示可以被执行以生产图2的示例性集成电路的机器可读指令的示例性流程图。

图17是包括用于执行图16的指令以生产图2的示例性集成电路的处理器平台的打印头制造系统。

附图不是按比例绘制的。只要可能,贯穿附图和所附书面描述使用相同的附图标记来指代相同或相似的元件。如本文所使用的,陈述一层在另一层“上”、“上方”或“下方”不意指这两层必须“接触”;它们可以直接地接触并且可能存在或可能不存在中间层。短语“与…接触”用于意指在没有中间结构或层的情况下两个结构之间的直接接触。

具体实施方式

本文公开的示例涉及包括存储器(例如,非易失性存储器、忆阻器存储器(例如,具有1k-5k个忆阻器比特的忆阻器、具有多于5k个忆阻器比特的忆阻器等)等)的打印头(例如,一次性集成打印头(IPH)、具有离轴墨汁供应的永久打印头)、打印机和/或成像设备(例如,打印机、复印机等)。本文公开的某些示例性设备支持在打印头中实现防伪(AFC)技术和安全认证信息。本文公开的示例对于降低涉及制造打印头的生产成本(例如,降低每比特成本),同时改善打印性能并且将额外的特征(例如,安全特征)并入到这样的打印头中是有用的。另外或替代地,本文公开的示例性打印头被配置为存储与标识信息相关联的数据、认证信息、基于云的打印、市场数据、信息、客户答谢值(CAV)功能、数据等。

在某些示例中,存储器(例如,忆阻器、电阻式随机存取存储器)是使用打印头的表面和/或结构(例如,金属层)在打印头内或打印头上整体地形成的。因此,忆阻器自身的一部分是另外的功能性打印头的一层或多层。本文公开的示例可以使用NMOS过程、CMOS过程、BiCMOS、双极性-CMOS-DMOS(BDCD)过程或制造打印头和/或半导体的任何其它过程来生产。本文公开的示例可以用于基于金属氧化物系统使用基于阴离子的双极性忆阻器来制造打印头上的集成电路(IC)芯片(例如,2.5mm x 2.5mm大小的芯片、5x5mm大小的芯片等)或IC管芯。在这样的示例中,金属氧化物沉积(例如,溅射、使用原子层沉积(ALD)来沉积、物理沉积)在打印头上以形成忆阻器结构。替代地,对打印头的金属层进行氧化以形成忆阻器结构。

在某些示例中,使用金属-氧化物-金属结构(例如,金属-绝缘体-金属)来将忆阻器构建在打印头上、形成在打印头上、装配在打印头上和/或集成到打印头上。本文公开的示例提供了可行的、成本高效的并且高度可制造的结构来在适当大小的硅区域(例如,相对小的、与打印头上的可用空间可比较的区域)上形成打印头,以实现存储器比特库来存储标识(ID)信息并且提供认证。在某些示例中,向在打印头上形成的和/或集成到打印头上形成的示例性忆阻器提供ID比特线或ID线,以存储出于认证目的的标识信息。本文公开的示例使用ID线来存储出于认证目的的标识。本文公开的示例使用ID线来接收并存储安全或认证数据。这样的安全或认证数据可以用于将相应的打印头(或打印盒)识别为来自特定制造商的真品(例如,真HP打印盒)。通过这种方式,ID线对于制造商分配可被检验为真制造商零件的零件来说是有用的。零件真伪的这种可检验性试图辅助对抗对售后市场零件的伪造,所述售后市场零件常常是质量较差的零件并且有时可能损害其中安装有该伪造零件的机器或降低其中安装有该伪造零件的机器的性能。在某些示例中,ID线可以另外地或替代地存储加密/解密数据(例如,安全密钥)以用在涉及刚好在打印之前对以加密格式发送到打印机的数据进行解密的安全打印中。

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