[发明专利]具有纳米结构化表面的制品有效
申请号: | 201380081423.4 | 申请日: | 2013-12-06 |
公开(公告)号: | CN105792953B | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | S·库代尔;R·德利约;G·托尔蒂西耶 | 申请(专利权)人: | 依视路国际公司;株式会社尼康 |
主分类号: | B08B17/06 | 分类号: | B08B17/06;G02B1/11;G02B27/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 牛南辉;魏子翔 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 纳米 结构 表面 制品 | ||
1.一种制品,其包括至少一个纳米结构化表面,其中:
-所述纳米结构化表面由具有低于25mJ/m2的表面能的材料制成,并且包括限定出腔的相接的基元的阵列,
所述基元的所述腔通过中间的固体材料壁而被彼此分隔开,并且向外界开口,
并且
-所述腔具有满足以下条件的平均高度H和平均半径R:
R≥5nm;
R≤250nm;以及
H≤3R,
其中θadv是液体在由与所述纳米结构化表面相同的表面材料制成的平坦表面上的前进角,并且
其中,所述制品具有等于或低于30%的下沉α,其中
其中h是所述腔中间壁的被液体润湿的高度,H是所述腔的平均高度。
2.根据权利要求1所述的制品,其中平均半径R满足以下条件:
R≥10nm;
R≤200nm。
3.根据权利要求2所述的制品,其中
R≤150nm。
4.根据权利要求2所述的制品,其中
R≤100nm。
5.根据权利要求1所述的制品,其中,下沉α为从10%至小于30%,并且腔平均高度H满足条件H≤1.5R。
6.根据权利要求1所述的制品,其中,下沉α小于10%,并且腔平均高度H满足条件H≤0.5R。
7.根据权利要求1所述的制品,其中,H>0.20R。
8.根据权利要求1所述的制品,其中,所述基元阵列的几何固相分数等于或低于0.7,所述几何固相分数从纳米结构俯视图视角被定义为所述纳米结构化表面的固体表面积与总表面积的比。
9.根据权利要求8所述的制品,其中,所述基元阵列的几何固相分数等于或低于0.5。
10.根据权利要求8所述的制品,其中,所述基元阵列的几何固相分数等于或低于0.3。
11.根据权利要求1所述的制品,其中,所述阵列为周期阵列。
12.根据权利要求1所述的制品,其中,所述纳米腔为圆柱形的。
13.根据权利要求1所述的制品,其中,所述纳米结构化表面已经受疏水和/或疏油处理。
14.根据权利要求13所述的制品,其中,所述疏水和/或疏油处理包括在制成的表面上沉积疏水和/或疏油涂层。
15.根据权利要求14所述的制品,其中,所述疏水和/或疏油涂层包括含氟化合物。
16.根据权利要求1所述的制品,其中,所述制品为透明的物品。
17.根据权利要求16所述的制品,其中,所述透明的物品为光学物品。
18.根据权利要求2所述的制品,其中,下沉由以下测量方法确定:使液体冻结或使保持与所述液体相同的表面张力的流体硬化以通过借助扫描电子显微镜检查固化的液体的形状而探测并且测量所述下沉。
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