[其他]基板载具

说明书

技术领域

本实用新型的实施例一般是关于处理大面积基板的装置及方法。更特定地，本实用新型的实施例是关于用以于大面积基板处理腔中清洁基板载具与部件的装置及方法。

背景技术

平面显示器及太阳能面板的工艺通常包括在大面积基板上沉积薄膜。薄膜可利用化学气相沉积(chemical vapor deposition)工艺沉积，在化学气相沉积中，化学前体被导入至处理腔(processing chamber)中，进行化学反应以形成预定的化合物或材料，然后沉积在定位于处理腔内的基板上。在处理及传递大面积基板进出处理腔的期间内，有时会使用基板载具来支撑大面积基板。在沉积工艺中，化学前体除了在大面积基板上反应并形成薄膜之外，也可能会在基板载具和腔体部件上反应并形成薄膜。基板载具及腔体部件上的薄膜形成可能会造成微粒污染(particle contamination)。可通过使用等离子体来清洁腔体部件来减低微粒污染。传统的大面积基板的基板载具，以及用来支撑及搬运大面积基板的腔体部件通常以不锈钢制成，以获得足以承载大面积基板的结构强度。然而，不锈钢并不相容于清洁用等离子体(cleaning plasma)。因此，传统的大面积基板的基板载具及处理腔需要打开腔体的手动清洁，使系统停机时间延长。所以，存在有清洁用以处理大面积基板的基板载具及腔体部件的需要。

实用新型内容

本实用新型的实施例是关于一种垂直处理系统，具有与清洁用等离子体相容的腔体部件。本实用新型的实施例也关于一种可用等离子体来清洁的基板载具。

本实用新型的一实施例提供一种基板载具。基板载具包括用以容纳与支撑基板于其中的框体。框体包括多个夹具，用以固定基板于框体中。基板载具也包括附接于框体的上部轨道。上部轨道包括可磁性化的材料，框体的外表面以及上部轨道与清洁用等离子体相容。

本实用新型的另一实施例提供一种用以处理大面积基板的装置。装置包括腔体及等离子体源。腔体定义一内部空间。等离子体源邻近内部空间的中间区域设置，并分隔内部空间为第一处理区域与第二处理区域。装置也包括第一直线滚轮轨道、第一磁 轨及第一背板，第一直线滚轮轨道设置于第一处理区域的下部，用以于垂直方向支撑及传输基板载具；第一磁轨设置于第一处理区域的上部，用以在垂直方向上导引被第一直线滚轮轨道所支撑的基板载具；第一背板可移动地设置在第一处理区域内。第一背板被配置成附接于位于第一直线滚轮轨道上的基板载具，以密封基板载具的背侧。装置还包括第二直线滚轮轨道、第二磁轨及第二背板，第二直线滚轮轨道设置于第二处理区域的下部，用以于垂直方向支撑及传输基板载具；第二磁轨设置于第二处理区域的上部，用以在垂直方向上导引由第二直线滚轮轨道所支撑的基板载具；第二背板可移动地设置在第二处理区域内。第二背板被配置成附接于位于第二直线滚轮轨道上的基板载具，以密封基板载具的背侧。

本实用新型的另一实施例提供一种用以处理大面积基板的系统布局。系统布局包括前述实施例所公开的用以处理大面积基板的装置、第一装料锁定腔、第二装料锁定腔、第一装载/卸载托架及第二装载/卸载托架。第一装载/卸载托架可移动地附接于第一装料锁定腔，第二装载/卸载托架可移动地附接于第二装料锁定腔。第一装料锁定腔被配置成装载及卸载基板载具至装置的第一直线滚轮轨道，第二装料锁定腔被配置成装载及卸载基板载具至装置的第二直线滚轮轨道。

本实用新型的另一实施例提供一种等离子体清洁载具的方法。此方法包括于处理腔中容纳未承载基板的基板载具，此处理腔被配置为处理位于垂直方向上的一个或多个大面积基板；以及于处理腔中产生清洁用等离子体，以清洁基板载具与处理腔的内部表面。根据本实用新型的一实施例，在沉积期间用以覆盖基板背侧的背板的表面也可与处理腔的内表面同时用等离子体清洁。等离子体清洁期间背板可与基板载具相隔一距离。

根据本实用新型一方面，提供了一种基板载具，包括：框体，被配置成容纳基板于其中并且支撑基板，其中所述框体包括多个夹具，用以固定所述基板于所述框体中；以及轨道，附接于所述框体，其中所述轨道包括可磁性化材料，所述框体的外表面以及所述轨道包括等离子体相容材料。

根据本实用新型又一方面，所述框体包括上段、下段以及两个侧边段，所述上段、所述下段以及所述两个侧边段围绕位于其中的矩形内部开口，所述框体的一侧形成有步阶。

根据本实用新型又一方面，所述基板载具还包括设置于所述步阶上的多个接触垫，于操作期间内，所述多个接触垫接触所述基板。