[其他]压敏轨迹板有效
申请号: | 201390000923.6 | 申请日: | 2013-09-27 |
公开(公告)号: | CN204719696U | 公开(公告)日: | 2015-10-21 |
发明(设计)人: | M·D·泰努塔;A·莱巴 | 申请(专利权)人: | 谷歌公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/044 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 林斯凯 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 轨迹 | ||
1.一种轨迹板设备,其特征在于其包括:
安置在所述轨迹板设备的顶面上的电容式触摸感测图案;
安置在所述电容式触摸感测图案下方的电容式压力感测图案,其中所述电容式压力感测图案与所述电容式触摸感测图案相分离并且不同于所述电容式触摸感测图案;
安置在所述电容式触摸感测图案与所述电容器压力感测图案之间的绝缘层;
安置在所述电容式压力感测图案下方的可压缩隔膜,其中所述可压缩隔膜与所述绝缘层相分离并且不同于所述绝缘层;及
至少一个控制器,
其中:
所述至少一个控制器及所述电容式触摸感测图案经共同配置以检测所述电容式触摸感测图案中的电荷耦合的位置特定的减少,所述位置特定的减少是由电荷被经放置与所述轨迹板设备的所述顶面电接触的一或多个导电物体从所述电容式触摸感测图案分流而引起;及
所述至少一个控制器、所述电容式压力感测图案及所述可压缩隔膜经共同配置以检测所述电容式压力感测图案中的电荷耦合的位置特定的变化,所述位置特定的变化是由施加压力于所述轨迹板设备的所述顶面而引起,其中所述电容式压力感测
图案中的电荷耦合的所述位置特定的变化至少部分地归因于所述可压缩隔膜的移位。
2.根据权利要求1所述的轨迹板设备,其特征在于所述至少一个控制器及所述电容式压力感测图案经进一步共同配置以对于所述轨迹板设备的所述顶面上的一或多个对应位置检测施加于所述轨迹板设备的所述顶面的相应压力量。
3.根据权利要求1所述的轨迹板设备,其中所述绝缘层包括安置在所述电容式触摸感测图案与所述电容器压力感测图案之间的印刷电路板PCB衬底。
4.根据权利要求3所述的轨迹板设备,其特征在于所述PCB衬底包括玻璃增强型环氧树脂层压PCB衬底。
5.根据权利要求1所述的轨迹板设备,其特征在于所述电容式压力感测图案中的电荷耦合的所述位置特定的变化包括所述电容式压力感测图案中的位置特定的电荷耦合的相应降低,所述降低是由到电接地的位置特定的电荷耦合归因于所述可压缩隔膜的移位的对应增加而引起。
6.根据权利要求5所述的轨迹板设备,其特征在于所述可压缩隔膜包含硅酮、聚对苯二甲酸乙二酯及空气中的至少一者。
7.根据权利要求1所述的轨迹板设备,其特征在于所述可压缩隔膜安置在所述电容式压力感测图案的第一层与所述电容式压力感测图案的第二层之间,其中所述电容式压力感测图案中的电荷耦合的所述位置特定的变化包括所述电容式压力感测图案的所述第一层与所述电容式压力感测图案的所述第二层之间的电荷耦合归因于所述可压缩隔膜的移位的相应位置特定的增加。
8.根据权利要求7所述的轨迹板设备,其特征在于所述可压缩隔膜包含硅酮、聚对苯二甲酸乙二酯及空气中的至少一者。
9.根据权利要求1所述的轨迹板设备,其特征在于所述至少一个控制器经进一步配置以:
解析与所述电容式触摸感测图案中的电荷耦合的所述所检测位置特定的减少对应的一或多个几何图案;及
基于一或多个图案过滤准则过滤所述经解析一或多个几何图案。
10.根据权利要求9所述的轨迹板设备,其特征在于所述一或多个图案过滤准则包括手指椭圆图案匹配准则及手掌图案排斥准则中的至少一者。
11.根据权利要求9所述的轨迹板设备,其特征在于所述至少一个控制器经进一步配置以基于所述一或多个经解析几何图案及所述图案过滤准则过滤所述电容式压力感测图案中的电荷耦合的所述所检测位置特定的变化。
12.根据权利要求1所述的轨迹板设备,其特征在于所述至少一个控制器经进一步配置以基于所述电容式触摸感测图案中的电荷耦合的所述所检测位置特定的减少的移动来检测所述一或多个导电物体跨所述轨迹板设备的所述顶面的移动。
13.根据权利要求1所述的轨迹板设备,其特征在于所述至少一个控制器经进一步配置以基于所述电容式压力感测图案中的电荷耦合的所述所检测位置特定的变化的移动来检测所述一或多个导电物体跨所述轨迹板设备的所述顶面的移动。
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