[发明专利]环形薄壁Al-NpO2弥散芯块的制备工艺有效
申请号: | 201410001563.2 | 申请日: | 2014-01-03 |
公开(公告)号: | CN103691956A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 尹邦跃;吴学志 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | B22F3/16 | 分类号: | B22F3/16;B22F1/00 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 环形 薄壁 al npo sub 弥散 制备 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及一种辐照靶件的制备方法,特别涉及一种环形薄壁Al-NpO2弥散芯块的制备工艺。
背景技术
237Np的比活度高达2.58×107Bq/g,半衰期长达100万年以上,化学毒性极高,因此镎靶件的制备必须在密封、屏蔽条件良好且保持负压的手套箱内进行,操作十分复杂。
为了最大程度减轻镎的放射性和化学毒性的危害,满足操作要求,同时还要考虑到非常昂贵的237Np原料价格因素,因此镎靶件的制备不应采用如研磨等不利的机械加工方式。在这种情况下,就要求在镎靶件的制备过程中应采用直接成型的方式,并同时满足较高的成型精度要求。
作为一种较为常用的镎靶件,Al-NpO2弥散芯块具有导热性能好、包容裂变产物能力强、后处理方便等优点。同时,为了便于反应堆辐照,提高辐照效率,在某些情况下,需要将Al-NpO2弥散芯块制成环形薄壁结构。
当前,制备Al-NpO2弥散芯块的工艺主要有共热挤压和粉末冶金烧结。共热挤压工艺是国外常用的方法,其优点为:可获得接近全致密的弥散芯块;芯块不需机械加工;芯块与铝合金包壳界面实现冶金结合,不存在气隙,有利于传热。但共热挤压工艺存在着如下难以克服的缺点:当硬脆的NpO2含量较高时共热挤压难以进行;在610℃以上共热挤压时Al将与NpO2反应形成热导率较低、脆性很高的NpAl4金属间化合物和Al2O3;制备环形、薄壁芯块的难度较大,设备复杂,废品率较高,生产效率较低。
而对于粉末冶金烧结工艺,国内外的相关研究报道较少。粉末冶金烧结工艺的优点为:烧结温度一般低于600℃,Al不会与NpO2反应形成其它相;工艺和设备简单,成品率高,生产效率较高。但粉末冶金烧结工艺也存在一些缺点,例如:一、Al的熔点为660℃,NpO2的熔点为2560℃,两者相差很大,因此在Al中混合较多的NpO2粉末会严重阻碍Al的烧结致密化,导致难以获得较高密度的Al-20%NpO2弥散芯块;二、Al的理论密度为2.70g/cm3,而NpO2的理论密度高达11.125g/cm3,两者相差很大,因此要保证Al与NpO2混合均匀,具有较大技术难度;三、制造元件或靶件时需要将芯块装管,在芯块不经研磨加工、直接装管的情况下,要精确控制芯块的外径有较大难度,而芯块与包壳之间的装配间隙过大会影响传热,间隙过小则不能顺利装管。
由于Al-NpO2弥散芯块粉末冶金烧结工艺上存在上述缺陷,为了发挥其优势,因此需要在其基础上开发一种新的制备工艺以适于实际应用。
发明内容
为解决现有Al-NpO2弥散芯块粉末冶金烧结工艺存在的上述不足,提高Al-NpO2弥散芯块的致密度、Al与NpO2的均匀程度,同时精确控制芯块的尺寸以避免对其进行机械加工,本发明提供了一种环形薄壁Al-NpO2弥散芯块的制备工艺。
一种环形薄壁Al-NpO2弥散芯块的制备工艺,该制备工艺包括以下步骤:
(1)在中位粒径小于40μm的Al粉中加入浓度为0.5-1wt%的聚乙烯醇水溶液,搅拌均匀后真空干燥,干燥后进行破碎,用50-100目筛网过筛,完成Al粉造粒;
(2)取重量为造粒后Al粉1-20wt%的NpO2粉末,以及重量为NpO2粉末0.9-1.1倍的造粒后Al粉混合均匀,得到初混粉末;然后在初混粉末中加入剩余的造粒后Al粉,以及占NpO2粉末与造粒后Al粉总重之和的0.2-0.5wt%的硬脂酸,混合均匀后得到混合粉末;
(3)用500-800MPa压力在模具中对混合粉末进行冷压成型,保压时间30-60s,脱模后得到环形薄壁Al-NpO2弥散芯块生坯,其外形尺寸根据脱模后的弹性后效加以控制;
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