[发明专利]艾里光束加速曲线的测量方法有效
申请号: | 201410002629.X | 申请日: | 2014-01-03 |
公开(公告)号: | CN103743480A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 范永涛;魏劲松;王睿 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01J1/42 | 分类号: | G01J1/42 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光束 加速 曲线 测量方法 | ||
1.一种艾里光束加速曲线的测量方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
①沿光束前进方向设置沿光束前进方向移动的位移台(4),面阵光电传感器(3)固定在所述的位移台(4)上,沿光束前进方向同光轴地依次设置二元位相器件(1)、傅立叶透镜(2)和所述的面阵光电传感器(3),所述的二元位相器件(1)位于所述的傅立叶透镜(2)的前焦面(f1),所述的二元位相器件的法线与所述的傅立叶透镜(2)的光轴与重合,所述的面阵光电传感器(3)的传感阵列与所述的光轴垂直,所述的二元位相器件(1)是产生一对加速方向相反的艾里光束的器件;
②一平行光垂直照射在所述的二元位相器件(1)上,以傅立叶透镜(2)的后焦点(f2)为参考点,驱动所述的位移台,带动所述的面阵光电传感器(3)沿光轴方向运动,记录所述的位移台的位置读数,即面阵光电传感器(3)的位置,同时所述的面阵光电传感器(3)拍摄下该截面处的双艾里光束的光场强度分布;
③根据拍摄所得图像和面阵光电传感器像素尺寸,计算得到实际双艾里光束主极大之间的间距,除以2即为单艾里光束的加速位移,根据不同位置处的单艾里光束的加速位移和位移台沿光轴方向的位移,绘制艾里光束的加速曲线。
2.根据权利要求1所述的艾里光束加速曲线测量方法,其特征在于:所述的二元位相器件是液晶型空间光调制器或非周期性固体微纳结构器件。
3.根据权利要求1所述的艾里光束加速曲线测量方法,其特征在于:所述的面阵光电传感器是面阵电荷耦合器件或面阵互补金属氧化物半导体器件。
4.根据权利要求1所述的艾里光束加速曲线测量方法,其特征在于:所述的位移台是带光栅尺或刻度尺的手动或电机驱动的一维直线位移台。
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