[发明专利]平衡器和具有该平衡器的洗衣机有效

专利信息
申请号: 201410003484.5 申请日: 2014-01-03
公开(公告)号: CN103911811B 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 郑东河;姜定勋;金旻成;柳斗荣 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: D06F37/22 分类号: D06F37/22
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 代理人: 鲁恭诚,郭鸿禧
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 平衡器 具有 洗衣机
【说明书】:

技术领域

本公开的实施例涉及一种洗衣机,所述洗衣机包括用于补偿在滚筒的旋转期间引起的不平衡负荷的平衡器。

背景技术

洗衣机是被构造为使用电力洗涤衣物的设备,并且通常包括限定洗衣机外观的机壳、将洗涤水存储在机壳内部的桶、可旋转地安装在桶内部的滚筒和可旋转地驱动滚筒的电机。

在衣物和洗涤水被容纳在滚筒中的状态下,当电机使滚筒旋转时,衣物与滚筒和洗涤水摩擦,以使衣物上的污渍被清除。

如果在滚筒的旋转期间衣物集中在滚筒中特定部分而不是均匀地分布在滚筒中,则由于滚筒的离心旋转导致产生振动和噪声,甚至会损坏诸如滚筒和电机的组件。

因此,需要一种克服上述缺陷的洗衣机。

发明内容

因此,本公开的一方面提供一种具有改善的性能的平衡器和具有该平衡器的洗衣机。

本公开的其他方面一部分将在下面的描述中进行阐述,一部分将通过该描述而变得明显,或者可通过对该公开的实施而被了解。

根据本公开的一方面,一种洗衣机包括:机壳;滚筒,可旋转地布置在机壳内;环形凹进部分,设置在滚筒中;平衡器,用于补偿在滚筒的旋转期间在滚筒内引起的不平衡负荷,其中,平衡器包括:平衡器壳体,安装到凹进部分,并且在平衡器壳体中具有环形通道;至少一个质量体,可运动地设置在通道中;至少一个槽,形成在平衡器壳体的内表面上,并容纳质量体,从而当滚筒的RPM在特定的RPM范围内时,所述槽限制质量体沿着通道运动。

所述槽可以由沿着平衡器壳体的圆周方向彼此间隔地布置的至少两个槽构成。

所述槽可以沿着平衡器壳体的圆周方向延长,以容纳至少两个质量体。

所述槽可以由基于穿过滚筒的旋转中心的假想线对称地布置的至少两个槽构成。

平衡器壳体可包括:第一壳体,所述第一壳体的一侧敞开;第二壳体,覆盖第一壳体以形成环形通道;其中,所述槽形成在第一壳体中。

第一壳体可包括:彼此面对的第一内表面与第二内表面;连接第一内表面和第二内表面的第三内表面,其中,所述槽可以形成在第一内表面至第三内表面中的至少一个上。

平衡器壳体的中心和第二内表面之间的距离可以大于平衡器壳体的中心和第一内表面之间的距离,所述槽可以形成在第一内表面上。

所述槽的两端可设置有支撑部分,从而当滚筒的RPM在特定的RPM范围内时,防止质量体与所述槽脱离。

所述槽可以包括朝向通道内部倾斜地形成的至少一个倾斜表面。

所述槽可以包括至少一个平直表面,所述倾斜表面可包括连接在所述平直表面两端的第一倾斜表面和第二倾斜表面。

由所述平直表面和第一倾斜表面限定的第一倾斜角度可不同于由所述平直表面和第二倾斜表面限定的第二倾斜角度。

质量体可被设置为球形形状。

在通道中可容纳有流体,从而防止质量体突然地运动。

根据本公开的另一方面,一种洗衣机包括:机壳;滚筒,可旋转地布置在机壳内;环形凹进部分,设置在滚筒中;平衡器,结合到滚筒,并用于补偿在滚筒的旋转期间在滚筒内引起的不平衡负荷,其中,平衡器包括:平衡器壳体,在平衡器壳体中具有环形通道;至少一个质量体,可运动地设置在通道中,通道包括具有增加的截面面积的至少一个截面增加部分,从而当滚筒的RPM在特定的RPM范围内时,所述截面增加部分限制质量体沿着通道运动。

所述截面增加部分可由沿着平衡器壳体的圆周方向彼此间隔地布置的至少两个截面增加部分构成。

所述截面增加部分可沿着平衡器壳体的圆周方向延长,以容纳至少两个质量体。

截面增加部分可由基于穿过滚筒的旋转中心的假想线对称地设置的至少两个截面增加部分构成。

截面增加部分的两端的截面面积大于截面增加部分的两端之间的截面面积,使得当滚筒的RPM脱离特定的RPM范围时,设置在截面增加部分的至少一个质量体与截面增加部分平稳地脱离。

所述质量体可被设置为球形形状。

所述截面增加部分可具有与所述质量体的至少一部分相对应的形状。

根据本公开的又一方面,一种用于补偿洗衣机的滚筒的不平衡负荷的洗衣机的平衡器包括:平衡器壳体,安装到滚筒的前表面和后表面中的至少一个上,并且具有沿着滚筒的圆周方向延伸的通道;多个质量体,可运动地沿着通道设置;至少一个槽,形成在平衡器壳体的内表面上,并安放所述多个质量体,从而当滚筒的RPM在特定的RPM范围内时,所述槽限制质量体沿着通道运动;阻尼流体,容纳在通道中,从而当力作用在质量体上时,阻尼流体向质量体施加阻力。

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