[发明专利]高度量测装置及其方法

权利要求书

1.一种高度量测方法，适用于具有一第一反射面的环境，该高度量测方法包含：

沿一第一光径发射一第一激光；

判断是否接收到对应于该第一激光的一第一反射光，其中该第一反射光是被该第一反射面所反射；

若接收到该第一反射光，依据对应于该第一反射光的一第一数据，计算一第一长度值；

沿一第二光径发射一第二激光；

判断是否接收到对应于该第二激光的一第二反射光，其中该第二反射光是被待测物与该第一反射面所反射；

若接收到该第二反射光，依据对应于该第二反射光的一第二数据，计算一第二长度值；以及

至少依据该第一长度值与该第二长度值，计算该待测物的一待测物高度。

2.如权利要求1所述的高度量测方法，其中该第一反射面选自由一天花板、一墙面与一挡板所组成的群组其中之一。

3.如权利要求1所述的高度量测方法，其中在判断是否接收到对应于该第一激光的该第一反射光的步骤中为一第一强度阈值与一第一时间阈值判断是否接收到对应于该第一激光的该第一反射光。

4.如权利要求1所述的高度量测方法，其中在判断是否接收到对应于该第一激光的该第一反射光的步骤中，若未接收到该第一反射光，则修正该第一光径以重新发射该第一激光。

5.如权利要求4所述的高度量测方法，其中该第一光径关联于一第一发射位置与一第一发射角度，并且修正该第一光径至少修正该第一发射位置或该第一发射角度。

6.如权利要求1所述的高度量测方法，其中在判断是否接收到对应于该第二激光的该第二反射光的步骤中为一第二强度阈值与一第二时间阈值判断。

7.如权利要求1所述的高度量测方法，其中在判断是否接收到对应于该第二激光的该第二反射光的步骤中，若未接收到该第二反射光，则修正该第二光径以重新发射该第二激光。

8.如权利要求7所述的高度量测方法，其中该第二光径关联于一第二发射位置与一第二发射角度，并且修正该第二光径至少修正该第二发射位置或该第二发射角度。

9.如权利要求1所述的高度量测方法，其中该第一数据包含该第一激光的一第一发射时间与该第一反射光被接收的一第一接收时间，并且该第二数据包含该第二激光的一第二发射时间与该第二反射光被接收的一第二接收时间，并且在依据该第一数据，计算该第一长度值的步骤中为该第一发射时间与该第一接收时间计算该第一长度值，并且在依据该第二数据，计算该第二长度值的步骤中为该第二发射时间与该第二接收时间计算该第二长度值。

10.如权利要求1所述的高度量测方法，其中该第一数据包含该第一激光的一第一发射相位与该第一反射光被接收的一第一接收相位，并且该第二数据包含该第二激光的一第二发射相位与该第二反射光被接收的一第二接收相位，并且在依据该第一数据，计算该第一长度值的步骤中为该第一发射相位与该第一接收相位计算该第一长度值，并且在依据该第二数据，计算该第二长度值的步骤中为该第二发射相位与该第二接收相位计算该第二长度值。

11.如权利要求1所述的高度量测方法，还包含：

沿一第三光径发射一第三激光；

判断是否接收到对应于该第三激光的一第三反射光，其中该第三反射光是被该待测物与该第一反射面所反射；以及

若接收到该第三反射光，依据对应于该第三反射光的一第三数据，计算一第三长度值；

其中，在计算该待测物的该待测物高度的步骤中为该第一长度值、该第二长度值与该第三长度值，计算该待测物高度。